産業財産権

特許権

分析装置用ポリマー膜、分析装置、分析装置用基板、分析装置用ポリマー膜の製造方法、および分析装置用基板の製造方法

ＴＯＷＡ株式会社

藤田悠二
天谷諭

出願番号: 特願2016-078015
出願日: 2016年4月8日
公開番号: 特開2017-187443
公開日: 2017年10月12日

リンク情報

J-GLOBAL: https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201703013370381910

ID情報

J-Global ID : 201703013370381910

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