2020年5月 サリチルヒドラジド誘導体修飾シリカゲルの合成および金属イオン吸着挙動評価 第80回分析化学討論会 酒井 亮佑, 大嶋 俊一, 久保埜 公二, 鈴木 保任, 藤永 薫, 坂本 宗明 記述言語 掲載種別 研究論文(研究会,シンポジウム資料等) 出版者・発行元 日本分析化学会 エクスポート BibTeX RIS