2010年3月1日
21aGL-8 分子架橋系の電子トンネル機構に関する理論研究 : I-V特性のFowler-Nordheimプロットにおける屈曲の起源(21aGL 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
日本物理学会講演概要集
- ,
- 巻
- 65
- 号
- 1
- 開始ページ
- 935
- 終了ページ
- 935
- 記述言語
- 日本語
- 掲載種別
- 出版者・発行元
- 一般社団法人日本物理学会
- リンク情報
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- CiNii Articles
- http://ci.nii.ac.jp/naid/110007657267
- CiNii Books
- http://ci.nii.ac.jp/ncid/AA11439205
- ID情報
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- ISSN : 1342-8349
- CiNii Articles ID : 110007657267
- CiNii Books ID : AA11439205