2018年8月
Characterization of SiO2 reduction reaction region at void periphery on Si(110)
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
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- 巻
- 57
- 号
- 8
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 研究論文(学術雑誌)
- DOI
- 10.7567/JJAP.57.08NB13
- リンク情報
- ID情報
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- DOI : 10.7567/JJAP.57.08NB13
- ISSN : 0021-4922
- eISSN : 1347-4065
- Web of Science ID : WOS:000443890500015