MISC

2005年8月1日

機能性材料における表面処理技術の現状と展望表面偏析制御による真空中低摩擦表面の実現

金属

土佐正弘
笠原章
後藤真宏

巻: 75
号: 8
開始ページ: 751
終了ページ: 754
記述言語: 日本語
掲載種別

リンク情報

J-GLOBAL: https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=200902220095739603
URL: http://jglobal.jst.go.jp/public/200902220095739603

ID情報

ISSN : 0368-6337
J-Global ID : 200902220095739603

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