書籍等出版物

2012年

ナノエレクロノニクスにおける絶縁超薄膜技術—成膜技術と膜・界面の物性科学

廣瀬和之
小林大輔

担当区分: 共著
担当範囲: X線光電子分光と第一原理分子軌道計算によるMOS界面局所構造の物性研究誘電率と絶縁破壊
出版者・発行元: 株式会社エヌ・ティー・エス
総ページ数
担当ページ: 第2編1章3節
記述言語: 日本語
著書種別: 学術書

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