MISC

2011年6月

改良型キャプセル温度制御装置の設計

JAEA-Technology 2011-016
  • 小沼 勇一
  • ,
  • 井上 修一
  • ,
  • 岡田 祐次
  • ,
  • 作田 善幸
  • ,
  • 菅野 勝

開始ページ
13
終了ページ
記述言語
日本語
掲載種別
機関テクニカルレポート,技術報告書,プレプリント等
DOI
10.11484/jaea-technology-2011-016

大洗研究開発センターのJMTR(Japan Materials Testing Reactor:材料試験炉)では、キャプセル照射装置を用いた照射試験において、照射試料の温度制御能力を向上させるための取り組みを実施している。これまでに照射キャプセル内の照射試料の温度を制御する装置に、リアルタイムの原子炉出力の信号を取り込み、原子炉出力の変動に基づき、先行値制御を行うことにより照射試料の温度を精度よく制御することができるキャプセル温度自動制御装置を開発した。JMTR再稼働後においては、未知の材料挙動の解明及び材料の開発により、将来社会に向けた新たな原子力エネルギー開発に貢献し、世界でもトップレベルの高精度で温度制御された照射試験データを得られるようにするため、改良型キャプセル温度制御装置の開発を進めている。

リンク情報
DOI
https://doi.org/10.11484/jaea-technology-2011-016
URL
https://jopss.jaea.go.jp/search/servlet/search?5030260
ID情報
  • DOI : 10.11484/jaea-technology-2011-016

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