後藤哲也 (Tetsuya Goto) - マイポータル

基本情報

所属: 東北大学未来科学技術共同研究センター開発研究部先進半導体センサ・デバイス開発プロジェクト教授

学位: 博士（理学）(2000年3月筑波大学)

研究者番号: 00359556
J-GLOBAL ID: 201901004099861283
researchmap会員ID: B000355895

プラズマプロセス、半導体デバイス・プロセス

研究キーワード

研究分野

経歴

2020年1月 - 現在

東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 教授
2007年4月 - 2019年12月

東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 准教授
2002年4月 - 2007年3月

東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 助手
1997年4月 - 2000年3月

日本学術振興会, 特別研究員（DC1：筑波大学）

学歴

1995年4月 - 2000年3月

筑波大学大学院, 博士課程物理学研究科

委員歴

2018年4月 - 2019年7月

日本表面真空学会, ISSP2019実行委員長
2012年4月 - 2014年3月

電気学会, 電子デバイス技術委員会委員
2011年4月 - 2014年3月

電気学会, 編修委員会委員

受賞

2022年5月

丹羽高柳賞論文賞, 映像情報メディア学会
2013年5月

SID2013 Distinguished Paper Award,, "Electrical Properties of Amorphous InGaZnO Thin-Film Transistors Prepared by Magnetron Sputtering Using Kr and Xe Instead of Ar", Society for Information Display,

Tetsuya Goto, Shigetoshi Sugawa, Tadahiro Ohmi

論文

146

Threshold voltage uniformity improvement by introducing charge injection tuning for low-temperature poly-Si thin film transistors with metal/oxide/nitride/oxide/silicon structure

Tetsuya Goto, Tomoyuki Suwa, Keita Katayama, Shu Nishida, Hiroshi Ikenoue, Shigetoshi Sugawa

Japanese Journal of Applied Physics 63(2) 02SP51-02SP51 2024年1月17日査読有り
Visualization and Analysis of Temporal and Steady-State Gas Concentration in Process Chamber Using 70-dB SNR 1,000 fps Absorption Imaging System

Y. Sakai, Y. Shiba, T. Inada, T. Goto, T. Suwa, T. Oikawa, A. Hamaya, A. Sutoh, T. Morimoto, Y. Shirai …

IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 36(4) 515-519 2023年11月査読有り
Threshold Voltage Control of LTPS TFTs with MONOS Structure

Tetsuya Goto, Tomoyuki Suwa, Keita Katayama, Shu Nishida, Hiroshi, Ikenoue, Shigetoshi Sugawa

2023 International Conference on Solid State Devices and Materials E-7-02 245-246 2023年9月査読有り
Characterization of MONOS-Type Polycrystalline Silicon Thin Film Transistors

Tetsuya Goto, Tomoyuki Suwa, Keita Katayama, Shu Nishida, Hiroshi Ikenoue, Shigetoshi Sugawa

2023 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of advanced Semiconductor Devices (AWAD2023) P-4 2023年7月査読有り
Excimer laser doping for the fabrication of 4H-SiC power devices

Yoshiaki Kakimoto, Keita Katayama, Takuma Yasunami, Tetsuya Goto, Daisuke Nakamura, Hiroshi Ikenoue

Laser Applications in Microelectronic and Optoelectronic Manufacturing (LAMOM) XXVIII 12408 2023年3月17日査読有り
In Situ Measurement and Analysis of Low Pressure Gas Concentration Distribution Using 70-dB SNR 1,000 Frame-per-second Absorption Imaging System

Yushi Sakai, Yoshinobu Shiba, Takafumi Inada, Tetsuya Goto, Tomoyuki Suwa, Akihito Sutoh, Tatsuo Morimoto, Yasuyuki Shirai, Shigetoshi Sugawa, Tetsu Oikawa …

International Symposium on Semiconductor Manufacturing 2022 PM-41 2022年12月査読有り
Effect of charge-up of surfaces of sintered Y2O3 and yttrium oxyfluoride on their erosion rates due to ion bombardment

Tetsuya Goto, Yoshinobu Shiba, Akinobu Teramoto, Yukio Kishi, Shigetoshi Sugawa

Journal of Vacuum Science & Technology B 40(6) 062205-1-062205-7 2022年11月査読有り
Silicon Nitride Film Formations Using Magnetic-Mirror Confined Plasma System Developed for Minimal Fab System

Tetsuya Goto, Thai Quoc Cuong, Seiji Kobayashi, Yuki Yabuta, Shigetoshi, Sugawa, Shiro Hara

2022 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of advanced Semiconductor Devices (AWAD) 2022年7月査読有り筆頭著者
A 70-dB SNR High-Speed Global Shutter CMOS Image Sensor for in Situ Fluid Concentration Distribution Measurements

Tetsu Oikawa, Rihito Kuroda, Keigo Takahashi, Yoshinobu Shiba, Yasuyuki Fujihara, Hiroya Shike, Maasa Murata, Chia-Chi Kuo, Yhang Ricardo Sipauba Carvalho da Silva, Tetsuya Goto …

IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES 69(6) 2965-2972 2022年6月査読有り
Excimer laser doping of low resistance Ni ohmic contacts to n-type 4H-SiC

Yoshiaki Kakimoto, Keita Katayama, Takuma Yasunami, Tetsuya Goto, Daisuke Nakamura, Hiroshi Ikenoue

The 4th Smart Laser Processing Conference 2022 (SLPC7-03) 47 2022年4月査読有り
Estimating transistor characteristics from low temperature polycrystalline silicon surface images using deep learning

Keita Katayama, Takayuki Kurashige, Takahiro Nagano, Yoshiaki Kakimoto, Akira Mizutani, Daisuke Nakamura, Tetsuya Goto, Hiroshi Ikenoue

The 4th Smart Laser Processing Conference 2022 SLPC3-03(SLPC3-03) 28 2022年4月査読有り
Two High-Precision Proximity Capacitance CMOS Image Sensors with Large Format and High Resolution

Yuki Sugama, Yoshiaki Watanabe, Rihito Kuroda, Masahiro Yamamoto, Tetsuya Goto, Toshiro Yasuda, Hiroshi Hamori, Naoya Kuriyama, Shigetoshi Sugawa

SENSORS 22(7) 2022年4月査読有り
Electrical Characteristics of LTPS TFTs Fabricated by ELA with Laser Intensity Distributions Controlled by Dot Array Masks

Toru Okatsugi, Keita Katayama, Yoshiaki Kakimoto, Daisuke Nakamura, Tetsuya Goto, Hiroshi Ikenoue

Proceedings of the International Display Workshops 29 284-286 2022年
Sub-aF Detection Accuracy CMOS Proximity Capacitance Image Sensors for Inspection, Authentification and More

Rihito Kuroda, Yuki Sugama, Yoshiaki Watanabe, Tetsuya Goto, Toshiro Yasuda, Shinichi Murakami, Hiroshi Hamori, Shigetoshi Sugawa

The 28th International Display Workshops INP5-1 2021年12月査読有り
Array of GaN micro-LED chips and monocrystal Si CMOS pixel circuit chips mounted on flexible substrate

Tetsuya Goto, Takeshi Okuno, Yoshikazu Suzuki, Koichi Kajiyama, Yoshihiko Muramoto, Shigetoshi Sugawa

The 28th International Display Workshops FMC2-4L 2021年12月査読有り筆頭著者
A 1000fps High SNR Voltage-domain Global Shutter CMOS Image Sensor with Two-stage LOFIC for In-Situ Fluid Concentration Distribution Measurements

Tetsu Oikawa, Rihito Kuroda, Keigo Takahashi, Yoshinobu Shiba, Yasuyuki Fujihara, Hiroya Shike, Maasa Murata, Chia-Chi Kuo, Yhang Ricardo, Sipauba Carvalho …

International Image Sensor Workshop (IISW) 258-261 2021年9月査読有り
High-precision CMOS Proximity Capacitance Image Sensors with Large-format 12 μm and High-resolution 2.8 μm Pixels

Yuki Sugama, Yoshiaki Watanabe, Rihito Kuroda, Masahiro Yamamoto, Tetsuya Goto, Toshiro Yasuda, Shinichi Murakami, Hiroshi Hamori, Naoya Kuriyama, Shigetoshi Sugawa

International Image Sensor Workshop (IISW) 288-291 2021年9月査読有り
Size Effects of Poly-Si Formed by Laser Annealing With Periodic Intensity Distribution on the TFT Characteristics

Akira Mizutani, Fuminobu Hamano, Daisuke Nakamura, Tetsuya Goto, Siti Rahmah Aid, Hiroshi Ikenoue

IEEE Journal of the Electron Devices Society 9 679-686 2021年7月査読有り
Estimation of the mobility of low temperature polycrystalline silicon thin film transistors through deep learning

Akira Mizutani, Fuminobu Hamano, Keita Katayama, Daisuke Nakamura, Tetsuya Goto, Hiroshi Ikenoue

Proceedings of SPIE 11673 2021年査読有り
High accuracy high spatial resolution and real-time CMOS proximity capacitance image sensor technology and its applications

Rihito Kuroda, Masahiro Yamamoto, Yuki Sugama, Yoshiaki Watanabe, Manabu Suzuki, Tetsuya Goto, Toshiro Yasuda, Shinichi Murakami, Yayoi Yokomichi, Hiroshi Hamori …

ITE Transactions on Media Technology and Applications 9(2) 122-127 2021年査読有り

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MISC

強度分布を有するエキシマレーザーアニールによる結晶粒径制御と低温ポリシリコン薄膜トランジスタ特性

西田脩, 片山慶太, 中村大輔, 後藤哲也, 池上浩

電子情報通信学会技術研究報告, シリコン材料・デバイス研究会 SDM2023-58 27-33 2023年10月
磁場閉じ込め型プラズマ CVD によるシリコン窒化膜形成

後藤哲也

先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、 CMP、洗浄－ 92-101 2023年9月
MONOS 型低温ポリシリコン TFT におけるしきい値電圧制御

後藤哲也, 諏訪智之, 片山慶太, 西田脩, 池上浩, 須川成利

第 84 回応用物理学会秋季学術講演会 20p-B201-7 12-088 2023年9月
レーザードーピング後の光学顕微鏡画像を用いた機械学習による 4H-SiC 電極のコンタクト状態の予測

岩泉裕生, 安並拓磨, 片山慶太, 柿本祥明, 中村大輔, 後藤哲也, 池上浩

第 70 回応用物理学会春季学術講演会講演予稿集 (17p-A405-4) 03-442 2023年3月
MONOS 型ポリシリコン TFT でのしきい値電圧制御に関する検討

後藤哲也, 諏訪智之, 須川成利

第 70 回応用物理学会春季学術講演会講演予稿集 (15p-B410-5) 12-016 2023年3月
強度分布を有するエキシマレーザーアニール法を用いた高性能薄膜トランジスタの製作と評価

西田脩, 岡次徹, 片山慶太, 中村大輔, 後藤哲也, 池上浩

一般社団法人レーザー学会学術講演会第 43 回年次大会 D11-20a-VII-02 2023年1月
トリシランを用いたミニマルファブ向けポリシリコンゲート電極のCVD 成膜に関する検討

後藤哲也, 小林誠二, タイクオッククオン, 薮田勇気, 須川成利, 原史朗

第83回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 20p-A406-8 2022年9月
大判12µm画素と高解像度2.8µm画素の高精度近接容量CMOSイメージセンサ

須釜侑希, 渡部吉祥, 黒田理人, 山本将大, 後藤哲也, 安田俊朗, 村上真一, 羽森寛, 栗山尚也, 須川成利

映像情報メディア学会技術報告 45(30) 13-16 2021年9月
深層学習を用いた低温ポリシリコン薄膜トランジスタの電気的特性推定

倉重貴行, 永野貴寛, 水谷彬, 片山慶太, 中村大輔, 後藤哲也, 池上浩

第82回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 10p-N302-4 2021年9月
ミニマルファブ用ミラー磁場閉じ込めプラズマCVD装置によるジクロロシランガスを用いたシリコン窒化膜形成

後藤哲也, 小林誠二, タイクオッククオン, 薮田勇気, 須川成利, 原史朗

第82回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 12a-N323-6 2021年9月
MRAM用MgO薄膜の信頼性に関する研究

諏訪智之, 土本淳一, 寺本章伸, 後藤哲也, 朴賢雨, 須川成利

第32回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング 45-53 2020年11月
レーザーアニール法による低温多結晶Si薄膜の特性改善と電気特性評価

濱野史暢, 妹川要, 中村大輔, 後藤哲也, 池上浩

レーザー学会学術講演会第40回年次大会 D02-20P-V-08 2020年1月
高速ビデオカメラを用いたマグネトロンスパッタリングプラズマの揺動現象の観察 (シリコン材料・デバイス)

山崎森太郎, 後藤哲也, 鈴木学, 黒田理人, 須川成利

電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 119(239) 69-72 2019年10月23日
アルミナゾル塗布法による低温ポリシリコン膜中へのKrFエキシマレーザードーピング

倉重貴行, 妹川要, 諏訪輝, 中村大輔, 佐道泰造, 後藤哲也, 池上浩

第80回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 18a-E304-1 2019年9月
レーザーアニール法による低温多結晶Si薄膜の表面平坦化及びトランジスタの作製と評価

濱野史暢, 妹川要, 中村大輔, 後藤哲也, 池上浩

第80回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 18a-E304-3 2019年9月
局所レーザーアニールにより結晶成長制御した低温多結晶Si薄膜トランジスタ特性

妹川要, 濱野史暢, 中村大輔, 齋藤香織, 後藤順, 後藤哲也, 池上浩

第80回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 18a-E304-2 2019年9月
ディスプレイ製造用レーザーアニール技術の現状と将来

後藤哲也

一般財団法人光産業技術振興協会019 年度多元技術融合光プロセス研究会第 1 回研究交流会プログラム,「光応用プロセスの基礎と先端技術」 2019年7月招待有り
0.1aFの検出精度を有するCMOS近接容量イメージセンサ

山本将大, 黒田理人, 鈴木学, 後藤哲也, 羽森寛, 村上真一, 安田俊朗, 横道やよい, 須川成利, 須川成利

映像情報メディア学会技術報告 43(11(IST2019 12-22)) 49‐54-54 2019年3月15日
局所レーザーアニールによる低多結晶Si薄膜の結晶形状制御

山田貴大, 妹川要, 中村大輔, 後藤哲也, 池上浩

第66回応用物理学会春季学術講演会講演予稿集 10a-M114-7 2019年3月
A Study of Gate Insulator Reliability due to Localized Defects Using Large Scale Array Test Circuit

朴賢雨, 寺本章伸, 黒田理人, 諏訪智之, 後藤哲也, 鈴木勇人, 須川成利

第30回マイクロエレクトロニクス研究会プロシーディング 27-34 2018年11月

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講演・口頭発表等

AI による Si 薄膜トランジスタの電気特性推定」AIによるSi薄膜トランジスタの電気特性推定

池上浩, 倉重貴行, 永野貴寛, 片山慶太, 柿本祥明, 中村大輔, 後藤哲也

第 69 回応用物理学会春季学術講演会シンポジウム 2022年3月23日招待有り
半導体製造用成膜プロセスの高性能化に向けた取り組み

後藤哲也

第32回マイクロエレクトロニクス研究会 2020年11月14日招待有り
プラズマ成膜技術の将来展望

後藤哲也

化学工学会第51回秋季大会 2020年9月25日招待有り
YOFコーティングのプラズマ耐性

後藤哲也, 志波良信, 寺本章伸, 岸幸男, 須川成利

応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第223回研究集会 2020年2月14日招待有り
Selective Laser Annealing Technology for LTPS Thin Film Transistors Fabrications

Tetsuya Goto

2019 International Conference on Solid State Devices and Materials 2019年9月3日招待有り
Application of Rotation Magnet Sputtering Technology to a-IGZO Film Depositions

Tetsuya Goto

Society for Information Display 2014 International Symposium 2014年5月23日招待有り

所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

ポリイミド基板上に集積した多数TFTの自己整合的な特性ばらつき均一化技術の確立

日本学術振興会基盤研究（C） 2022年4月 - 2025年3月

後藤哲也
分極/電荷蓄積融合型ハフニウム系不揮発性多値メモリの創製

日本学術振興会基盤研究（A） 2019年4月 - 2023年3月

大見俊一郎
マイクロ波励起プラズマを用いた低ダメージ薄膜形成用ミニマル装置の開発

経済産業省中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業） 2015年7月 - 2018年3月

小林誠二
原子オーダ平坦な界面を有する3 次元立体構造トランジスタの製造プロセスに関する研究

文部科学省特別推進研究 2010年4月 - 2014年3月

大見忠弘
回転マグネットスパッタ技術を用いた高性能酸化物半導体薄膜トランジスタの開発

日本学術振興会若手研究（B） 2012年4月 - 2013年3月

後藤哲也
低消費電力・高精細大画面液晶テレビ用高性能ゲルマニウム薄膜トランジスタの開発

日本学術振興会若手研究（A） 2008年4月 - 2009年3月

後藤哲也

後藤哲也

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講演・口頭発表等

所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

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