論文

査読有り
2015年

Suppression of byproduct generation at 4H-SiC/SiO2 interface by the control of oxidation conditions characterized by infrared spectroscopy

Applied Physics Express
  • Hirai, Hirohisa
    • ,
  • Kita, Koji
巻
8
号
2
記述言語
掲載種別
研究論文（学術雑誌）
DOI
10.7567/APEX.8.021401
Web of Science ® 被引用回数 : 14
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DOI
https://doi.org/10.7567/APEX.8.021401
Web of Science
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ID情報
  • DOI : 10.7567/APEX.8.021401
  • ORCIDのPut Code : 45785853
  • Web of Science ID : WOS:000350091400007
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