山本洋揮 (Hiroki Yamamoto) - マイポータル

基本情報

所属: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構高崎量子応用研究所先端機能材料研究部主幹研究員（定常） (プロジェクトチーフ、客員准教授、招聘准教授)

学位: 博士（工学）(大阪大学)

研究者番号: 00516958
J-GLOBAL ID: 202001013521337843
researchmap会員ID: R000006700

研究キーワード

研究分野

経歴

2019年4月 - 現在

群馬大学, 非常勤講師（客員准教授）
2018年7月 - 現在

国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所先端機能材料研究部, 主幹研究員（定常）
2018年1月 - 現在

大阪大学, 産業科学研究所, 招聘准教授
2018年1月 - 2018年6月

国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所先端機能材料研究部, 主任研究員（定常）
2011年8月 - 2017年12月

大阪大学, 産業科学研究所, 助教
2008年1月 - 2011年8月

大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教（常勤）
2006年4月 - 2007年1月

日本学術振興会特別研究員（DC2）

委員歴

2018年4月 - 現在

高分子学会印刷・情報・電子用材料研究会, 運営委員
2018年4月 - 現在

ラドテック研究会, 理事
2013年4月 - 現在

マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議, 論文委員/プログラム委員

受賞

2018年10月

MNC 2018 Most impressive Poster Award
2018年9月

日本放射線化学賞
2017年10月

DPS-2017 Best Presentation Award
2008年

APSRC-2008 Poster Award
2007年10月

MNC2007 Most impressive Poster Award

論文

109

Evaluation of Inorganic-organic Hybrid Resist Materials with Ultrafast Coherent High Harmonic Generation (HHG) EUV System Developed in QST

Hiroki Yamamoto, Thanh-Hung Dinh, Takahiro Kozawa, Shinichi Namba, Masahiko Ishino

Journal of Photopolymer Science and Technology 38(3) 217-221 2025年6月24日
Effect of organic ligand and metal nanocluster core structure on resist performance of inorganic-organic hybrid resist materials for EUV and EB lithography

Hiroki Yamamoto, Takashi Hamada, Yusa Muroya, Kazumasa Okamoto, Shuhei Shimoda, Takahiro KOZAWA

Japanese Journal of Applied Physics 2025年2月26日
Synthesis of Polystyrene-block-poly(3-hydroxy-1-methacryloyloxyadamantane) (PS-b-PHAdMA) via RAFT polymerization as candidate block copolymers for next generation lithography

Hiroki Yamamoto, Francis McCallum, Hui Peng, Idriss Blakey, Shin Hasegawa, Yasunari Maekawa, Takahiro Kozawa, Andrew K. Whittaker

Polymer 318 127983-127983 2025年1月査読有り
Transient Swelling During Development of Poly(methyl methacrylate) Resist

Akihiro Konda, Hiroki Yamamoto, Shusuke Yoshitake, Takahiro Kozawa

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(1) 81-88 2024年5月31日
Study on resist performance of inorganic-organic resist materials for EUV and EB lithography

Hiroki Yamamoto, Yuko Tsutsui Ito, Kazumasa Okamoto, Shuhei Shimoda, Takahiro KOZAWA

Japanese Journal of Applied Physics 2024年3月28日
Design of High-sensitive Resist Materials Based on Polyacetals

Hiroyuki Maekawa, Yutaro Iwashige, Hiroki Yamamoto, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Hiroto Kudo

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 31-39 2023年6月15日
Higher Sensitive Extreme Ultraviolet (EUV) Resist Materials Derived From p-t-Butylcalix[n]arenes (n = 4 and 8)

Hiroyuki Maekawa, Hiroto Kudo, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa

Journal of Photopolymer Science and Technology 33(1) 45-51 2020年7月1日
Lamellar Orientation of a Block Copolymer via an Electron-Beam Induced Polarity Switch in a Nitrophenyl Self-Assembled Monolayer or Si Etching Treatments

Hiroki Yamamoto, Guy Dawson, Takahiro Kozawa, Alex P. G. Robinson

QUANTUM BEAM SCIENCE 4(2) 2020年6月査読有り
Sensitivity enhancement of poly(methyl methacrylate) upon exposure to picosecond-pulsed extreme ultraviolet

Yuji Hosaka, Tomoko Gowa Oyama, Hiroki Yamamoto, Masahiko Ishino, Thanh-Hung Dinh, Masaharu Nishikino, Yasunari Maekawa

APPLIED PHYSICS LETTERS 115(7) 2019年8月査読有り
Synthesis and Property of Tellurium-Containing Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography System

Hiroto Kudo, Mari Fukunaga, Teppei Yamada, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 32(6) 805-810 2019年査読有り
Synthesis of hyperbranched polyacetals containing C-(4-t-butylbenz)calix [4] resorcinarene: Resist properties for extreme ultraviolet (EUV) lithography

Hiroto Kudo, Mari Fukunaga, Kohei Shiotsuki, Hiroya Takeda, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Takeo Watanabe

REACTIVE & FUNCTIONAL POLYMERS 131 361-367 2018年10月査読有り
Sensitizers in extreme ultraviolet chemically amplified resists: mechanism of sensitivity improvement

Yannick Vesters, Jing Jiang, Hiroki Yamamoto, Danilo De Simone, Takahiro Kozawa, Stefan De Gendt, Geert Vandenberghe

JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS 17(4) 2018年10月査読有り
Synthesis of metal nanoparticle and patterning in polymeric films induced by electron beam

Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Jean-Louis Marignier, Mehran Mostafavi, Jacqueline Belloni

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 10586 2018年査読有り
Sensitizers in EUV chemically amplified resist: Mechanism of sensitivity improvement

Yannick Vesters, Jing Jiang, Hiroki Yamamoto, Danilo De Simone, Takahiro Kozawa, Stefan De Gendt, Geert Vandenberghe

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 10583 2018年査読有り
Synthesis and Property of Tannic Acid Derivatives and Their Application for Extreme Ultraviolet Laser Lithography System

Hiroto Kudo, Shizuya Ohori, Hiroya Takeda, Hiroki Ogawa, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 31(2) 221-225 2018年査読有り
Synthesis and Property of Tannic Acid Derivatives and Their Application for Extreme Ultraviolet Laser Lithography System (vol 31, pg 221, 2018)

Hiroto Kudo, Shizuya Ohori, Hiroya Takeda, Hiroki Ogawa, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 31(6) 759-759 2018年査読有り
Role of Metal Sensitizers for Sensitivity Improvement in EUV Chemically Amplified Resist

Hiroki Yamamoto, Yannick Vesters, Jing Jiang, Danilo De Simone, Geert Vandenberghe, Takahiro Kozawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 31(6) 747-751 2018年査読有り
Dynamics of Radical Ions of Hydroxyhexafluoroisopropyl-Substituted Benzenes

Kazumasa Okamoto, Naoya Nomura, Ryoko Fujiyoshi, Kikuo Umegaki, Hiroki Yamamoto, Kazuo Kobayashi, Takahiro Kozawa

JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY A 121(49) 9458-9465 2017年12月査読有り
トップダウン・ボトムアップ技術の融合による金属ナノ粒子の位置制御

山本洋揮, 大谷文章, 古澤孝弘

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2017.2 1633-1633 2017年8月25日
Excluded volume effects caused by high concentration addition of acid generators in chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography

Takahiro Kozawa, Kyoko Watanabe, Kyoko Matsuoka, Hiroki Yamamoto, Yoshitaka Komuro, Daisuke Kawana, Akiyoshi Yamazaki

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(8) 2017年8月査読有り

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MISC

EUVリソグラフィ用有機無機ハイブリッドレジストのリソグラフィ特性における基礎研究

山本洋揮, 伊藤(筒井)裕子, 岡本一将, 古澤孝弘

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 85th 2024年
ポリスチレンの正電荷非局在性へのパルスラジオリシスおよびシミュレーションによるアプローチ

岡本一将, 山本洋揮, 山本洋揮, 古澤孝弘

日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM) 2022 2022年
反応性ガスクラスターインジェクションを用いた斜め2方向エッチングによる3D構造の作成

瀬木利夫, 山本洋揮, 古澤孝弘, 荘所正, 小池国彦, 青木学聡, 松尾二郎

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 65th 2018年
パルスラジオリシスによるフェニルスルホン化合物の放射線化学反応

岡本一将, 岡本一将, 河合俊平, 山本洋揮, 古澤孝弘

日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM) 2018 2018年
フッ素系EUVレジストモデル分子の放射線誘起初期過程

岡本一将, 山本洋揮, 小林一雄, 古澤孝弘

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 79th 2018年
液体フェニルシラン誘導体のパルスラジオリシス

堀成生, 岡本一将, 岡本一将, 山本洋揮, 室屋裕佐, 古澤孝弘, 大沼正人

放射線化学討論会講演要旨集 61st 2018年
ClF₃中性クラスター斜め2方向照射によるレバー構造の作成

瀬木利夫, 荘所正, 小池国彦, 山本洋揮, 古澤孝弘, 青木学聡, 松尾二郎

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 64th 2017年
トップダウン・ボトムアップ技術の融合による金属ナノ粒子の位置制御

山本洋揮, 大谷文章, 古澤孝弘

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年
化学増幅型レジストへのスルホン化合物の添加効果

岡本一将, 岡本一将, 藤井槙哉, 山本洋揮, 古澤孝弘, 井谷俊郎

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 64th 2017年
ポリスチレンのフェニルトリメトキシシラン溶液のパルスラジオリシス

堀成生, 岡本一将, 山本洋揮, 古澤孝弘, 藤吉亮子, 梅垣菊男

放射線化学討論会講演要旨集 60th 2017年
ClF₃中性クラスタービームによる斜めピラー構造の作成

瀬木利夫, 荘所正, 小池国彦, 山本洋揮, 古澤孝弘, 青木学聡, 松尾二郎

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 77th 2016年
アセタール基で保護したノーリア誘導体に基づいたレジスト材料の電子線照射に対する応答性の系統的な研究

山本洋揮, 工藤宏人, 古澤孝弘

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 77th 2016年
ポリビニルピロリドン微細構造上でのAuナノ粒子形成と制御

佃諭志, 岡本一将, 山本洋揮, 古澤孝弘

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 63rd 2016年
添加剤を用いた酸生成促進によるEUV用化学増幅型レジストの感度向上

藤井槙哉, 岡本一将, 山本洋揮, 古澤孝弘, 井谷俊郎

放射線化学討論会講演要旨集 59th 2016年
ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピルベンゼンのラジカルイオンのダイナミクス

岡本一将, 岡本一将, 野村直矢, 山本洋揮, 古澤孝弘, 藤吉亮子, 梅垣菊男

放射線化学討論会講演要旨集 59th 2016年
ClF₃中性クラスタービームによる斜めエッチング

瀬木利夫, 山本洋揮, 古澤孝弘, 吉野裕, 妹尾武彦, 小池国彦, 青木学聡, 松尾二郎

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 76th 2015年
EUVレジストに向けたフッ素ポリマーの放射線化学反応の解明

野村直矢, 岡本一将, 藤吉亮子, 梅垣菊男, 山本洋揮, 古澤孝弘

日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM) 2015 2015年
光酸発生剤を添加した芳香族系レジスト樹脂のパルスラジオリシス

岡本一将, 石田拓也, 藤吉亮子, 梅垣菊男, 山本洋揮, 古澤孝弘

日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM) 2015 2015年
パルスラジオリシスによるポリヒドロキシスチレン固体中での脱プロトン化反応に関する研究

山本洋揮, 岡本一将, 古澤孝弘

高分子学会予稿集(CD-ROM) 64(1) 2015年
パルスラジオリシス法によるフッ素樹脂の放射線化学反応の解明

野村直矢, 岡本一将, 藤吉亮子, 梅垣菊男, 山本洋揮, 古澤孝弘

日本原子力学会秋の大会予稿集(CD-ROM) 2015 2015年

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講演・口頭発表等

主鎖分解型レジスト溶解挙動の分子量依存性

誉田明宏,山本洋揮,吉武秀介,吉澤孝弘

第60回放射線化学検討会
電子線誘起によるニトロフェニルSAMの極性変化を用いたブロック共重合体のラメラ配向制御

山本洋揮, Guy Dawson,Alex, P.G.Robinson, 古澤孝弘

第60回放射線化学討論会
トップダウン・ボトムアップ技術の融合による金属ナノ粒子の位置制御

山本洋揮, 大谷文章, 古澤孝弘

第78回応用物理学会秋季学術講演会
メタルレジストの反応機構に関する研究

石原智志, 山本洋揮, Jelius Joseph Santillan, 井上俊郎, 古澤孝弘

第64回応用物理学会春季学術講演会
ニトロフェニル自己組織化単分子膜における電子線誘起極性変化によるブロック共重合体のラメラ配向

山本洋揮, Guy Dawson,Alex P.G.Robinson, 古澤孝弘

第64回応用物理学会春季学術講演会
アセタール基で保護したノーリア誘導体に基づいたレジスト材料の電子線照射に対する応答性の系統的な研究

山本洋揮, 工藤宏人, 古澤孝弘

第77回応用物理学会秋季学術講演会
主鎖分解型電子線レジストのレジスト性能評価

誉田明宏, 山本洋揮, 古澤孝弘

第64回高分子学会年次大会
パルスラジオリシスによるポリヒドロキシスチレン固体中での脱プロトン化反応に関する研究

山本洋揮,岡本一将,古澤孝弘

第64回高分子学会年次大会
PMMAレジストの現象過程における溶解挙動

誉田明弘, 山本洋揮, 光安蔣騎, 古澤孝弘, 吉武秀介

第62回応用物理学会春季学術講演会
環状オリゴマーに基づいた化学増幅型分子レジストのレジスト性能評価に関する研究

山本洋揮, 工藤宏人, 古澤孝弘

第75回応用物理学会秋季学術講演会
パルスラジオリシスによるポリヒドロキシスチレン固体中での脱プロトン化反応に関する研究

山本洋揮, 岡本一将, 古澤孝弘

第61回応用物理学会春季学術講演会
主鎖分解型電子線レジストにおけるラフネス形成機構に関する研究

山﨑智陽, 山本洋揮, 古澤孝弘

第56回放射線化学討論会
極端紫外光リソグラフィ用化学増幅型レジストの溶解過程に関する研究

光安蔣騎, 山本洋揮, 古澤孝弘

第56回放射線化学討論会
次世代リソグラフィ用レジストの現像過程の解明

山本洋揮, 古澤孝弘, 田川精一

第55回放射線化学討論会
ポリマーバウンドPAGレジストとポリマーブレンドPAGレジストのレジスト性能評価に関する研究

山本洋揮, Dang Nguyen Tuan, 田川精一

第73回応用物理学会学術講演会
ポリマーバウンドPAGレジストとポリマーブレンドPAGレジストの溶解挙動の研究

山本洋揮、古澤孝弘、田川精一

第60回高分子学会年次大会
EUVリソグラフィ用化学増幅型レジストの現像過程の解明

山本洋揮, 古澤孝弘, 田川精一

第59回応用物理学関係連合講演会
EUVリソグラフィ用化学増幅型レジストの現像過程の解明

山本洋揮,田川精一

第54回放射線化学討論会
EUV化学増幅レジストの現像解析

山本洋揮, 田川精一, 三村岳由, 岩井武, 小野寺純一

2011年秋季第72回応用物理学会学術講演会
紫外光電子分校（UPS)を使ったポリスチレン誘導体薄膜におけるイオン化ポテンシャルの研究

山本洋揮, 古澤孝弘, 田川精一

第71回応用物理学会学術講演会

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所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

EUVリソグラフィ×自己組織化による分子サイズに迫る超極微細加工技術の創製

日本学術振興会科学研究費助成事業国際共同研究加速基金(国際共同研究強化(A)) 2022年 - 2024年

山本洋揮
ダイレクトリソグラフィの実現を指向した金属極細線加工材料・プロセスの創出

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2020年4月 - 2023年3月

山本洋揮
精度１nm以下を実現する量産細線技術の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究挑戦的萌芽研究 2016年4月 - 2020年3月

山本洋揮
量子ビーム複合利用による最先端微細加工材料のナノ化学の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 基盤研究(A) 2013年4月 - 2018年3月

古澤孝弘, 山本洋揮, 小林一雄, 室屋裕佐
有機・無機ハイブリッドナノ粒子を用いた極限量子ビーム微細加工プロセスの創成

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(A) 若手研究(A) 2014年4月 - 2017年3月

山本洋揮
トップダウン・ボトムアップ融合型微細加工による金属ナノ構造体の創成と制御

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究挑戦的萌芽研究 2012年4月 - 2015年3月

山本洋揮
量子ビーム複合利用によるナノ空間反応および反応場の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 基盤研究(A) 2010年 - 2012年

古澤孝弘, 楊金峰, 小林一雄, 山本洋揮
凝縮相における熱化電子の大きさの研究

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究挑戦的萌芽研究 2009年 - 2011年

古澤孝弘, 山本洋揮
超微細加工におけるナノトポグラフィ機構の解明と制御

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(B) 若手研究(B) 2009年 - 2011年

山本洋揮
ナノビーム誘起反応機構に基づいた新規微細加工プロセスの創製

日本学術振興会科学研究費助成事業特別研究員奨励費特別研究員奨励費 2006年 - 2008年

山本洋揮
フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(S) 基盤研究(S) 2005年 - 2008年

田川精一, 古澤孝弘, 関修平, 佐伯昭紀, 岡本一将, 山本洋揮

山本洋揮

基本情報

研究キーワード

研究分野

経歴

委員歴

受賞

論文

MISC

講演・口頭発表等

所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

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