野中秀彦 (Hidehiko NONAKA) - マイポータル

基本情報

所属: 筑波大学筑波大学教授

J-GLOBAL ID: 200901093788381200
researchmap会員ID: 5000006581

研究分野

ナノテク・材料 / 基礎物理化学 /

経歴

1986年4月 - 2020年3月

産業技術総合研究所, 分析計測研究部門（最終）, 研究部門長（最終）

学歴

1984年4月 - 1986年3月

東京大学, 理学系研究科, 化学専門課程（修士）
1980年4月 - 1984年3月

東京大学, 理学部, 化学

委員歴

2021年3月 - 現在

筑波会議委員会, 筑波会議企画委員会/委員
2020年11月 - 現在

筑波会議委員会, 筑波会議実行委員会/委員長
2015年1月 - 現在

ISO, Technical Committee 201 (Surface Chemical Analysis)/Chair
2015年1月 - 現在

国際標準化機構, 専門員会 201（表面化学分析）/議長
2014年4月 - 現在

日本真空学会（2018より日本表面真空学会となる）, 表彰審査会審査委員会/委員
2014年4月 - 現在

日本真空学会（2018より日本表面真空学会となる）, 真空技術者資格認定委員会/委員
2007年11月 - 現在

日本計量振興協会, ISO/TC12国内委員会/委員
2007年11月 - 現在

表面化学分析技術国際標準化委員会, 表面化学分析技術国際標準化委員会/委員

論文

Final report on VAMAS round-robin study to evaluate a correction method for saturation effects in DSIMS

Takano, Akio, Nonaka, Hidehiko, Homma, Yoshikazu, Tomita, Mitsuhiro, Murase, Atsushi, Hayashi, Syunichi, Barozzi, Mario, Kim, Kyung Joon, Sykes, David, Simons, David …

Surface and Interface Analysis 47(6) 681-700 2015年4月査読有り
VAMAS round-robin study to evaluate a correction method for saturation effects in D-SIMS

Akio Takano, Hidehiko Nonaka, Yoshikazu Homma, Mitsuhiro Tomita, Atsushi Murase, Syunichi Hayashi, Mario Barozzi, Kyung Joon Kim, David Sykes, David Simons …

Surface and Interface Analysis 46(1) 244-248 2014年11月1日査読有り
Stabilities and dissociation reactions of the Irm(CO) n+ ions observed in TOF-SIMS of Ir4(CO) 12 thin layer

Taisuke Nakanaga, Hidekazu Nagai, Naoaki Saito, Yukio Fujiwara, Hidehiko Nonaka

Chemical Physics Letters 556 44-48 2013年1月29日査読有り
Emission characteristics of a charged-droplet beam source using vacuum electrospray of an ionic liquid

Surface and Interface Analysis 2013年1月査読有り
Comparison of a new dead-time correction method and conventional models for SIMS analysis

Surface and Interface Analysis 2012年9月査読有り
Component analysis of a mixed beam generated by vacuum electrospray of an ionic liquid

Journal of Applied Physics 2012年3月15日査読有り
Beam Characteristics of Positively and Negatively Charged Droplets Generated by Vacuum Electrospray of an Ionic Liquid

Yukio Fujiwara, Naoaki Saito, Hidehiko Nonaka, Shingo Ichimura

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 51(3) 2012年3月査読有り
Component analysis of a mixed beam generated by vacuum electrospray of an ionic liquid

Yukio Fujiwara, Naoaki Saito, Hidehiko Nonaka, Shingo Ichimura

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 111(6) 2012年3月査読有り
Beam Characteristics of Positively and Negatively Charged Droplets Generated by Vacuum Electrospray of an Ionic Liquid

Japanese Journal of Applied Physics 2012年3月1日査読有り
Mass shift in the mass spectra of TOF-SIMS and the analysis of kinetic energies of the ions

Nakanaga, Taisuke, Nagai, Hidekazu, Saito, Naoaki, Fujiwara, Yukio, Nonaka, Hidehiko

International Journal of Mass Spectrometry 311 24-30 2011年2月査読有り
Plasma Diagnostics for NH3Plasmas Using a Quartz Sensor at Various Pressures

Japanese Journal of Applied Physics 2011年1月20日査読有り
Bias voltage dependences of quartz sensor measurements for plasmas

Atsushi Suzuki, Hidehiko Nonaka

Journal of the Vacuum Society of Japan 54(3) 146-148 2011年査読有り
Plasma Diagnostics for NH3 Plasmas Using a Quartz Sensor at Various Pressures

Suzuki, Atsushi, Nonaka, Hidehiko

Japanese Journal of Applied Physics 50(1) 01AA03-1-01AA03-7 2011年1月査読有り
Current Standardization Activities of Measurement and Characterization for Industrial Applications

Nanotechnology Standards 2011年査読有り
Characteristics of a charged-droplet beam generated by vacuum electrospray of an ionic liquid

Chemical Physics Letters 2011年1月査読有り
Time-of-Flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) using the metal-cluster-complex primary ion of Ir4(CO)7+

Surface and Interface Analysis 2011年1月査読有り
金属クラスター錯体イオンビームの特性と二次イオン質量分析（SIMS）への応用

藤原幸雄, 野中秀彦, 齋藤直昭, 鈴木淳, 井藤浩志, 藤本俊幸, 黒河明, 一村信吾, 富田充裕

表面科学 31(11) 593-598 2010年11月査読有り
Mass Markers for Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry Spectrum in a Large Mass Region Using Ir4(CO)12 Metal Cluster Complex Sample

Nonaka, Hidehiko, Nakanaga, Taisuke, Fujiwara, Yukio, Saito, Naoaki, Fujimoto, Toshiyuki

Japanese Journal of Applied Physics 49(8) 086601-1-086601-6 2010年8月査読有り責任著者
Measurement for dissociation ratio of source gases in plasmas using a quartz sensor

Vacuum 2010年6月査読有り
A new cluster-ion-beam source for secondary ion mass spectrometry (SIMS) using the electrospray of a pure ionic liquid under high vacuum

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 2010年6月査読有り

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MISC

紫外光励起オゾンによるシリコン酸化膜および化学気相成長法 (CVD)-SiO₂ 膜の二段階酸化膜の界面特性評価

亀田直人, 西口哲也, 森川良樹, 花倉満, 牛山智晴, 野中秀彦, 一村信吾

J Vac Soc Jpn 53(3) 230-233 (J-STAGE) 2010年
Cluster Ion Beam Source Using Vacuum Electrospray of Ionic Liquids for Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)

Yukio Fujiwara, Naoaki Saito, Hidehiko Nonaka, Taisuke Nakanaga, Shingo Ichimura

7th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '09 471-474 2009年12月
キャピラリーによるイオンビームの収束

渡辺幸次, 近藤貢二, 藤原幸雄, 齋藤直昭, 野中秀彦, 一村信吾

J Vac Soc Jpn 52(3) 117-120 (J-STAGE) 2009年
紫外光分解反応を用いた減圧・高濃度オゾンガス分解装置

亀田直人, 西口哲也, 森川良樹, 花倉満, 野中秀彦, 一村信吾

J Vac Soc Jpn 52(4) 245-247 (J-STAGE)-247 2009年
高濃度オゾンによるSiC高速酸化と酸化膜の特性評価

野中秀彦, 一村信吾, 小杉亮治, 福田憲司, 荒井和雄

J Vac Soc Jpn 51(3) 221-223 2008年3月20日
励起状酸素を用いたシリコン低温酸化の大型基板酸化への適用

亀田直人, 斉藤茂, 西口哲也, 森川良樹, 花倉満, 野中秀彦, 一村信吾

J Vac Soc Jpn 51(3) 228-231 2008年3月20日
1,1,1,3,3,3‐ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長:赤外吸収スペクトルによる解析

中村健, 野中秀彦, 亀田直人, 西口哲也, 一村信吾

J Vac Soc Jpn 51(3) 224-227 2008年3月20日
Oxidation on poly silicon at low temperature using UV light-excited ozone gas

Naoto Kameda, Tetsuya Nishiguchi, Yoshiki Morikawa, Mitsuru Kekura, Hidehiko Nonaka, Shingo Ichimura

Shinku/Journal of the Vacuum Society of Japan 50(3) 208-210 2007年
Secondary ion mass spectrometry of organic thin films using metal-cluster-complex ion source

Yukio Fujiwara, Kouji Kondou, Hidehiko Nonaka, Naoaki Saito, Hiroshi Itoh, Toshiyuki Fujimoto, Akira Kurokawa, Shingo Ichimura, Mitsuhiro Tomita

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS 45(33-36) L987-L990 2006年9月査読有り
Ion-beam characteristics of the metal cluster complex of Ir-4(CO)(12)

Yukio Fujiwara, Kouji Kondou, Yoshikazu Teranishi, Hidehiko Nonaka, Toshiyuki Fujimoto, Akira Kurokawa, Shingo Ichimura, Mitsuhiro Tomita

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 100(4) 043305-1-043305-9 2006年8月査読有り
Depth resolution improvement in secondary ion mass spectrometry analysis using metal cluster complex ion bombardment

M. Tomita, T. Kinno, M. Koike, H. Tanaka, S. Takeno, Y. Fujiwara, K. Kondou, Y. Teranishi, H. Nonaka, T. Fujimoto …

APPLIED PHYSICS LETTERS 89(5) 053123-1-053123-3 2006年7月査読有り
Production of stable ion beam of Os-3(CO)(12) with compact metal-cluster-complex ion source

Yukio Fujiwara, Kouji Kondou, Yoshikazu Teranishi, Hidehiko Nonaka, Toshiyuki Fujimoto, Akira Kurokawa, Shingo Ichimura

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45(7) 6000-6007 2006年7月査読有り
Observation of sputtered Si surface irradiated with metal cluster complex ions

Yoshikazu Teranishi, Kouji Kondou, Yukio Fujiwara, Hidehiko Nonaka, Misuhiro Tomita, Kazuhiro Yamamoto, Toshiyuki Fujimoto, Shingo Ichimura

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45(6B) 5528-5530 2006年6月査読有り
A possible hydrogen sensing method with dual pressure gauges

A Suzuki, A Kurokawa, H Nonaka, S Ichimura

SENSORS AND ACTUATORS A-PHYSICAL 127(1) 37-40 2006年2月査読有り
UV光励起オゾンによるシリコン低温酸化過程－オゾン濃度その場測定によるプロセス中のO(1D)の時間分布の解析―

戸坂亜希, 西口哲也, 西口哲也, 野中秀彦, 一村信吾

真空 49(3) 123-125 2006年
Observation of a sputtered Si surface irradiated by metal cluster complex ions

Y. Teranishi, K. Kondou, Y. Fujiwara, H. Nonaka, K. Yamamoto, T. Fujimoto, S. Ichimura

Digest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2005: 2005 International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2005 146-147 2005年12月1日
Application of metal cluster complex ion beam for low damage sputtering

T Fujimoto, T Mizota, H Nonaka, A Kurokawa, S Ichimura

SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS 37(2) 164-166 2005年2月査読有り
Low-temperature oxidation of silicon using UV-light-excited ozone

A Tosaka, T Nishiguchi, H Nonaka, S Ichimura

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS 44(33-36) L1144-L1146 2005年査読有り
金属クラスター錯体を用いたクラスターイオン銃の開発

藤本俊幸, 溝田武志, 野中秀彦

ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＳＵＲＦＡＣＥＡＮＡＬＹＳＩＳ 12(1) 2-8 2005年
２種類の圧力測定素子を用いた水素漏洩検知

鈴木淳, 黒河明, 野中秀彦, 一村信吾

真空 48(7) 448-450 2005年

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講演・口頭発表等

Trench Coverage Properties of Oxide Films Deposited at Low Temperature by Pure Ozone ALD

Nonaka, Hidehiko

AVS 23rd International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2023) AVS
高純度オゾンを用いたALD によるAl2O3 膜段差被覆性

萩原, 崇之, 元田, 総一, 亀田, 直人, 中村, 健, 野中, 秀彦

第70回応用物理学会春季学術講演会応用物理学会
高純度オゾンを用いたALD によるAl2O3 膜の膜応力

萩原, 崇之, 元田, 総一, 亀田, 直人, 中村, 健, 野中, 秀彦

第83回応用物理学会秋季学術講演会応用物理学会
高純度オゾンを用いた低温ALD Al2O3膜の性質

萩原崇之, 阿部綾香, 亀田直人, 中村健, 野中, 秀彦

第81回応用物理学会秋季学術講演会 2020年9月8日応用物理学会
Room temperature ALD using high-purity ozone gas

Kameda, Naoto, Hagiwara, Takayuki, Abe, Ayaka, Miura, Toshinori, Morikawa, Yoshiki, Kekura, Mitsuru, Nakamura, Ken, Nonaka, Hidehiko

20th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2020) / 7th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2020) 2020年6月29日 AVS（American Vacuum Society）

所属学協会

1993年1月 - 現在

日本真空学会（2018より日本表面真空学会となる）
1986年9月 - 現在

応用物理学会
1984年4月 - 現在

日本化学会

共同研究・競争的資金等の研究課題

高濃度オゾン酸化に関する研究

その他

TGSW2020の3...

2020年9月 - 2020年9月

TGSW2020の3-1.筑波会議セッションにおいてモデレータを務めた。
TGSW2020の3-1.筑波会議セッションにおいてモデレータを務めた。

2020年9月 - 2020年9月

野中秀彦

基本情報

研究分野

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学歴

委員歴

論文

MISC

講演・口頭発表等

所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

その他

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