Si-C結合を含む有機金属を出発原料して、対向拡散CVD法にてメソポーラス細孔内にSiC膜を合成することを試みた。SiC源としてシラシクロブタン(SCB)、基材はφ3mm、細孔径150nmのα-Al2O3基材上にNi添加γ-Al2O3を2層コートした。SCBのキャリアガスとしてAr、反応ガスとしてH2を使用した。673Kにおける水素透過率は1.2X10-7 mol/m2・s・Pa、H2/CO2=2600で、細孔径分布が非常にシャープであり、極めて欠陥の少ない膜が合成することができた。