共同研究・競争的資金等の研究課題

2008年 - 2010年

高耐熱高耐水蒸気性水素分離膜の開発

日本学術振興会  科学研究費助成事業  基盤研究(C)

課題番号
20560636
体系的番号
JP20560636
配分額
(総額)
4,680,000円
(直接経費)
3,600,000円
(間接経費)
1,080,000円

分離活性層として使用されるアモルファスシリカの耐熱耐水蒸気性を向上させるにはシリコン原料へのシロキサン結合導入、中間層として使用されるγ-アルミナへのNi添加が有効であった。高温水蒸気雰囲気における水素分離膜ガス分離特性劣化メカニズムはアモルファスシリカの緻密化による水素透過率の減少とγ-アルミナの細孔径増大による窒素透過率の増加によるものであり、水素分離膜全体の耐熱耐水蒸気性向上には中間層の耐熱耐水蒸気性の向上がより重要であることが分かった。

リンク情報
KAKEN
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20560636
ID情報
  • 課題番号 : 20560636
  • 体系的番号 : JP20560636