松尾二郎 (Jiro Matsuo) - マイポータル

基本情報

所属: 京都大学大学院工学研究科附属量子理工学研究実験センター工学研究科量子理工学教育研究センター准教授,准教授

学位: 工学博士(京都大学)

J-GLOBAL ID: 200901098950845463
researchmap会員ID: 1000221145

研究キーワード

研究分野

ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電子デバイス、電子機器 /

学歴

- 1984年

京都大学, 電気通信学部, 電子工学
- 1984年

京都大学

論文

269

SIMS 測定のためのプラス α の研究技術

松尾二郎

応用物理 92(4) 235-239 2023年4月査読有り
High aspect (>20) etching with reactive gas cluster injection

Toshio Seki, Hiroki Yamamoto, Kunihiko Koike, Takaaki Aoki, Jiro Matsuo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 61(SI) ARTN SI1007 2022年7月査読有り
Photoinduced oxygen transport in cobalt double-perovskite crystal EuBaCo2O5.39

Masaki Hada, Satoshi Ohmura, Tadahiko Ishikawa, Masaki Saigo, Naoya Keio, Wataru Yajima, Tatsuya Suzuki, Daisuke Urushihara, Kou Takubo, Yusuke Masaki …

APPLIED MATERIALS TODAY 24 ARTN 101167 2021年9月査読有り
Phonon transport probed at carbon nanotube yarn/sheet boundaries by ultrafast structural dynamics

Masaki Hada, Kotaro Makino, Hirotaka Inoue, Taisuke Hasegawa, Hideki Masuda, Hiroo Suzuki, Keiichi Shirasu, Tomohiro Nakagawa, Toshio Seki, Jiro Matsuo …

CARBON 170 165-173 2020年12月査読有り
MeV-SIMS measurement of lithium-containing electrolyte

Toshio Seki, Tomoya Nonomura, Takaaki Aoki, Jiro Matsuo

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS 479 229-232 2020年9月査読有り
Secondary ion mass spectrometry measurements under ambient and humid conditions using MeV ions

Toshio Seki, Kenta Ishii, Takaaki Aoki, Jiro Matsuo

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 38(3) ARTN 034014 2020年5月査読有り
Optimized Alkali-Metal Cationization in Secondary Ion Mass Spectrometry of Polyethylene Glycol Oligomers with up to m/z 10000: Dependence on Cation Species and Concentration

Hubert Gnaser, Rika Oki, Takaaki Aoki, Toshio Seki, Jiro Matsuo

ANALYTICAL CHEMISTRY 92(1) 1511-1517 2020年1月査読有り
Effect of ramping up rate on end of range defect in multielement molecular-ion (CH3O)-implanted silicon wafers

Ryo Hirose, Ayumi Onaka-Masada, Ryosuke Okuyama, Takeshi Kadono, Satoshi Shigematsu, Kouji Kobayashi, Akihiro Suzuki, Yoshihiro Koga, Jiro Matsuo, Kazunari Kurita

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 58(12) ARTN 121002 2019年12月査読有り
Selective Reduction Mechanism of Graphene Oxide Driven by the Photon Mode versus the Thermal Mode.

Masaki Hada, Kiyoshi Miyata, Satoshi Ohmura, Yusuke Arashida, Kohei Ichiyanagi, Ikufumi Katayama, Takayuki Suzuki, Wang Chen, Shota Mizote, Takayoshi Sawa …

ACS nano 13(9) 10103-10112 2019年9月24日査読有り
Gas cooling secondary ions emitted by gas cluster ion beam at the travelling wave ion guide of a Q-ToF-SIMS system

P. Thopan, T. Seki, L. D. Yu, U. Tippawan, J. Matsuo

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS 450 139-143 2019年7月査読有り
Cluster ion beam bombardment and Q-ToF-SIMS analysis of large biomolecules

P. Thopan, T. Seki, L. D. Yu, U. Tippawan, J. Matsuo

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS 448 11-18 2019年6月査読有り
In situ cationization of molecular ions sputtered from organic specimens under cluster bombardment

Hubert Gnaser, Wolfgang Bock, Jiro Matsuo

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 36(3) 03F106 2018年5月査読有り
In situ cationization of molecular ions sputtered from organic specimens under cluster bombardment

Hubert Gnaser, Wolfgang Bock, Jiro Matsuo

Journal of Vacuum Science and Technology B: Nanotechnology and Microelectronics 36(3) 2018年5月1日査読有り
招待講演新しいプローブイオンを用いたSIMSによる有機材料分析 (光・量子デバイス研究会微細加工技術とバイオ・メディカル応用)

瀬木利夫, 青木学聡, 松尾二郎

電気学会研究会資料. OQD = The papers of technical meeting on optical and quantum devices, IEE Japan 2018(22) 29-33 2018年3月28日
大気圧SIMS法による固液界面の観察

松尾二郎

表面科学学術講演会要旨集 2018 363 2018年1月
Cationization and fragmentation of molecular ions sputtered from polyethylene glycol under gas cluster bombardment: An analysis by MS and MS/MS

Thopan, Prutchayawoot, Gnaser, Hubert, Oki, Rika, Aoki, Takaaki, Seki, Toshio, Matsuo, Jiro

International Journal of Mass Spectrometry 430 149-157 2018年査読有り
SIMS技術の飛躍的発展を支える新技術：新奇なイオンビーム開発から先端質量分析法まで

松尾二郎, 瀬木利夫, 青木学聡

表面と真空 61(7) 426-434 2018年
Molecular imaging of alkaloids in khat (Catha edulis) leaves with MeV-SIMS

Bostjan Jencic, Luka Jeromel, Nina Ogrinc Potocnik, Katarina Vogel-Mikus, Primoz Vavpetic, Zdravko Rupnik, Klemen Bucar, Matjaz Vencelj, Mitja Kelemen, Jiro Matsuo …

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS 404 140-145 2017年8月査読有り
Angled etching of Si by ClF3-Ar gas cluster injection

Seki, Toshio, Yamamoto, Hiroki, Kozawa, Takahiro, Shojo, Tadashi, Koike, Kunihiko, Aoki, Takaaki, Matsuo, Jiro

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(6) 06HB02 2017年6月査読有り
巻頭言：「イオン化」特集号に寄せて

松尾二郎

質量分析 65(1) 1-1 2017年1月

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MISC

144

Preface

K. Tsutsui, B. Z. Li, I. Mizushima, H. Wakabayashi, K. Suguro, J. Matsuo, Y. L. Jinag, T. Skotnicki, K. Ohuchi, S. Shibata …

15th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2015 2016年5月9日
Development of ambient SIMS using MeV-energy ion probe

Kusakari M., Fujii M., Seki T., Aoki T., Matsuo J.

Annual report of Quantum Science and Engineering Center 18 21-25 2016年4月
Development of Low-Vacuum SIMS Instruments with Large Cluster Ion Beam

Suzuki K., Kusakari M., Seki T., Aoki T., Matsuo J.

Annual report of Quantum Science and Engineering Center 18 26-29 2016年4月
銀蒸着法を用いた表面支援レーザー脱離イオン化イメージング質量分析の表面選択性について

佐藤貴弥, 新美大伸, 菊池真樹, 藤井麻樹子, 瀬木利夫, 松尾二郎

質量分析総合討論会講演要旨集 64th 2016年
3D molecular imaging of organic multilayer film by Ar gas cluster ion beam SIMS

Wakamoto K., Seki T., Aoki T., Matsuo J.

Annual report of Quantum Science and Engineering Center 16 27-29 2014年4月
Lipid Compounds Analysis with MeV-SIMS Apparatus

Fujii M., Kusakari M., Seki T., Aoki T., Matsuo J.

Annual report of Quantum Science and Engineering Center 16 22-24 2014年4月
Depth analysis of DSPC by SIMS, using gas cluster ion beam

Nakagawa S., Seki T., Aoki T., Matsuo J.

Annual report of Quantum Science and Engineering Center 15 21-23 2013年4月
X-ray Diffraction Measurements for a Diarylethene Single Crystal for Time-resolved Femtosecond X-ray Diffraction

Hontani Yusaku, Hada Masaki, Seki Toshio, Aoki Takaaki, Matsuo Jiro

Annual report of Quantum Science and Engineering Center 15 26-29 2013年4月
クラスターSIMS法による脂質分子の高感度検出とイメージングへの応用

松尾二郎, 中川俊一郎, 鳥居聡太, 藤井麻樹子, 瀬木利夫, 青木学聡

表面科学学術講演会要旨集 33 18-18 2013年
Ultrafast Hot Electron Induced Phase Transitions in Vanadium Dioxide

M. Hada, Y. Hontani, R. E. Marvel, R. F. Haglund, J. Matsuo

XVIIITH INTERNATIONAL CONFERENCE ON ULTRAFAST PHENOMENA 41 2013年査読有り
フェムト秒X線プローブで探索する超高速格子ダイナミクス (八木章先生退任記念号)

羽田真毅, 松尾二郎

商経学叢 59(2) 461-474 2012年12月
Beam Interactions with Materials and Atoms Section B of: Nuclear Instruments & Methods in Physics Research

Kai Nordlund, John Baglin, Maria-Grazia Grimaldi, Jiro Matsuo, Jan Meijer

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS 282 VII-VII 2012年7月
クラスターSIMS法による脂質薄膜の構造評価

松尾二郎, 中川駿一郎, 志戸本祥, 鳥居聡太, 瀬木利夫, 青木学聡

表面科学学術講演会要旨集 32 262-262 2012年
2次イオン質量分析法(SIMS法）によるバイオイメージング

松尾二郎, 市木和弥, 瀬木利夫, 青木学聡

表面科学学術講演会要旨集 31 171-171 2011年
Sputtering yield measurements with size-selected gas cluster ion beams

Ichiki, Kazuya, Ninomiya, Satoshi, Seki, Toshio, Aoki, Takaaki, Matsuo, Jiro

MRS Proceedings,1181, pp. 135-140 2011年1月査読有り
Preface

K. Tsutsui, B.-Z. Li, I. Mizushima, K. Suguro, Y. Kawasaki, Y.-L. Jiang, T. Skotnicki, S. Shishiguchi, J. Matsuo, H. Wakabayashi …

Extended Abstracts of the 11th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2011 iii 2011年査読有り
Evaluation of lattice motion in CdTe single crystal using in-air tabletop time-resolved X-ray diffractometer

Masaki Hada, Jiro Matsuo

BURIED INTERFACE SCIENCES WITH X-RAYS AND NEUTRONS 2010 24(1) 2011年査読有り
クラスターイオンビーム技術の最近の進展 (特集クラスタービームとその応用技術)

松尾二郎, 瀬木利夫, 青木学聡

表面科学,31 (11), pp. 564-571 2010年11月査読有り
Characteristics of organic depth profiling using large cluster ion beams

Satoshi Ninomiya, Kazuya Ichiki, Toshio Seki, Takaaki Aoki, Jiro Matsuo

Extended Abstracts of 10th Workshop on Cluster Ion Beam Technology 43-47 2010年6月
MD simulation of small boron cluster implantation

Aoki, Takaaki, Seki, Toshio, Matsuo, Jiro

2010 International Workshop on Junction Technology Extended Abstracts,, pp. 1-2 2010年5月

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書籍等出版物

Ultra-Hard DLC formation at low temperture by gas cluster in beam assisted deposition

松尾二郎

Mass and Change transprt in inorganic matcrials,/,957-964 2000年
Clustor size Measurment of Large Ar Cluster Ins with Time of Flight

松尾二郎

IEEE, Proc. of the 12th International Canferencecn Im Implantation Technology,/,1234-1237 1999年
AIP, Application of Cluster In Implantation Micro electronic Devices

松尾二郎

AIP, Application of Accelaratars in Research and Industry,/,379-382 1999年
Borm Diffusiun in Ultra Low Enery Decaboranc Im Implantation

松尾二郎

IEEE, Proc, of the 12th International Canferencecn Im Implantation Technology,/,1258-1261 1999年
Monte Curlo Simolation of Surfaces Smoothing Effect by Closter Ions

松尾二郎

IEEE, Proc. of the 12th Infornatinal Canferecnce on Im Implantation Technology,/,1230-1233 1999年
Development of Multi Been Gas Cluster In Bean Egipment for High Quality ITO Film Formation at Low temperatune

松尾二郎

IEEE, Proc, of the 12th In fornatinal Canferecnce on Im Inplantation Technology,/,1191-1194 1999年
Formation of Complex Cluster in Ar/O₂ Gas Closter Beams

松尾二郎

IEEE, Proc, of the 12th International Conferencecn Im Implantation Technology,/,1226-1229 1999年
STM-Observatins of the Amealiy Process of the Damage Caosel by Im Impact

松尾二郎

IEEE, Proc, of the 12th Internatinal Canference on Im Implantation Technology,/,1262-1265 1999年
Formation of oxide thir Films for Optical Applications by Oz cluster Im Assited Depusitim

松尾二郎

IEEE, Proc. of the 12th International Conferercecn Im Inplantation Technology,/,1195-1198 1999年
Moleculen Dynamic Study of Inplat and Damge Furmation in Low Energy Borm Cluster Im Implantation

松尾二郎

IEEE, Proc, of the 12th Internatinal Canference on Im Implantation Technology,/,1254-1257 1999年
Surface Smoothing of CVD Diamond Membrane for X-ray Lithography by Gcs Cluster In Beam

松尾二郎

RIP, Application of Accelarutors in Research and Industry,/,421-424 1999年
Novel Analysis Technigue using Gas Closter Becns

松尾二郎

AIP, Applicatin of Accelertirs in Research and Industry,/,429-432 1999年
Optical Thin Film Formation by Gas Closter In Becn Assisted Depositin

松尾二郎

AIP, Application of Accelertors in Research and Industry,/,409-412 1999年
Fulleren Im Implantation in GaAs(100)substrate

松尾二郎

IEEE, Proc, of the 12th Infornatinal Canferecnce on Im Implantation Technology,/,1203-1206 1999年
Oxide Film Deposition by Gas Cluster Im Assisted Depusitin

松尾二郎

AIP, Application of Acceleratons in Research and Industry,/,425-428 1999年
Cluster Ion Beam Processing

松尾二郎

Materials Science in Semiconductor Procesing,/,27-41 1998年
"Range and Damage Distribution in Cluster Ion Implantation"

松尾二郎

Materials Research Society Symposium Proceedings,438/,363-374 1997年
"Fundamental Aspects of the Ionized Cluster-Beam Deposition Process"

松尾二郎

Surface Review and Letters,3/1,1013-1016 1996年
"Surface Processing by Gas Cluster Ion Beams"

松尾二郎

International Conference on Ion Implantation Technology, IIT'96, 1996年
"Shallow Junction Formation by Polyatomic Cluster Ion Implantation"

松尾二郎

International Conference on Ion Implantation Technology, IIT'96, 1996年

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所属学協会

Works(作品等)

クラスターイオンビームプロセスの研究

2000年

共同研究・競争的資金等の研究課題

大気圧SIMS法の開発とその固液界面評価への応用

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 2017年4月 - 2021年3月

松尾二郎, 瀬木利夫, 青木学聡
ステロイドホルモンの質量分析イメージングによる組織細胞上の直接可視化法の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究 2014年4月 - 2017年3月

秦野修, 片桐昌尚, 松尾二郎, 磯崎勝弘, 岩﨑哲史, 竹森洋, 大西健, 矢尾育子
クラスターイオンを用いる固液界面評価技術の開発

科学技術振興機構産学が連携した研究開発成果の展開/研究成果展開事業/先端計測分析技術・機器開発プログラム/最先端研究基盤領域/要素技術タイプ 2014年 - 2017年

松尾二郎
巨大クラスターイオンによる機能性有機材料評価技術の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 2011年4月 - 2014年3月

松尾二郎, 青木学聡, 瀬木利夫
非イオン化クラスタービーム技術を利用したSi深堀エッチング技術の実用化開発

科学技術振興機構産学が連携した研究開発成果の展開/研究成果展開事業/研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP)/ハイリスク挑戦タイプ 2011年 - 2013年

松尾二郎
高速重イオンマイクロビームによる先進的分子イメージング法の研究

科学技術振興機構国際的な科学技術共同研究などの推進/戦略的国際科学技術協力推進事業/SICP/クロアチア 2010年 - 2013年

松尾二郎
ソフトナノマテリアル3D分子イメージング法の開発

科学技術振興機構戦略的な研究開発の推進/戦略的創造研究推進事業/CREST 2007年 - 2012年

松尾二郎
コンパクトフェムト秒X線源の探査研究

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究 2010年 - 2011年

松尾二郎
水溶液ジェットヘの高速イオン衝突により生成される二次電子・二次イオンの精密測定

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2004年 - 2006年

伊藤秋男, 柴田裕美, 今井誠, 松尾二郎, 土田秀次, 山本克治
クラスターイオン分析法

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2002年 - 2003年

松尾二郎, 高岡義寛
高機能酸化物薄膜形成方法の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2000年 - 2001年

松尾二郎, 高岡義寛
高エネルギー多原子イオンビーム照射による超硬度被膜形成の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 1998年 - 2000年

高岡義寛, 松尾二郎, 山田公
クラスターイオンビームと固体との非線形相互作用の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 1997年 - 1999年

山田公, 松尾二郎, 高岡義寛
ガスクラスターイオンビームと固体表面との反応素過程に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業重点領域研究 1997年 - 1997年

山田公, 松尾二郎, 高岡義寛
超高密度イオンビーム照射による表面改質の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 1996年 - 1997年

松尾二郎, 高岡義寛, 山田公
ガスクラスターイオンビームと固体表面との反応素過程に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業重点領域研究 1996年 - 1996年

山田公, 松尾二郎, 高岡義寛
ガスクラスターイオンビームと固体表面との反応素過程に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業重点領域研究 1995年 - 1995年

山田公, 松尾二郎, 高岡義寛
次世代高集積回路(LSI)用クラスターイオン注入装置の試作研究

日本学術振興会科学研究費助成事業試験研究(B) 1992年 - 1994年

山田公, 松田耗自, 山西健一郎, 友田利正, 松尾二郎, 高岡義寛, 松永幸二
全エピタキシャル金属/絶縁体積層構造形成とデバイスの研究

日本学術振興会科学研究費助成事業一般研究(B) 1992年 - 1994年

山田公, 松尾二郎, 高岡義寛
クラスターイオンビームプロセスの研究

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