2022年7月
High aspect (>20) etching with reactive gas cluster injection
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
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- 巻
- 61
- 号
- SI
- 開始ページ
- ARTN SI1007
- 終了ページ
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- DOI
- 10.35848/1347-4065/ac6565
- ID情報
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- DOI : 10.35848/1347-4065/ac6565
- ISSN : 0021-4922