特許権 半導体薄膜の製造方法、半導体デバイスおよび半導体薄膜製造装置 国立大学法人東北大学 黒木 伸一郎, 小谷 光司 出願番号 特願2010-176075 出願日 2010年8月5日 公開番号 特開2012-038843 公開日 2012年2月23日 リンク情報 J-GLOBALhttps://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201203097151450762 ID情報 J-Global ID : 201203097151450762