産業財産権

特許権

半導体薄膜の製造方法、半導体デバイスおよび半導体薄膜製造装置

国立大学法人東北大学
  • 黒木 伸一郎
  • ,
  • 小谷 光司

出願番号
特願2010-176075
出願日
2010年8月5日
公開番号
特開2012-038843
公開日
2012年2月23日

リンク情報
J-GLOBAL
https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201203097151450762
ID情報
  • J-Global ID : 201203097151450762