川合健太郎 (Kentaro Kawai) - マイポータル

基本情報

所属: 大阪大学アルバック未来技術協働研究所室長 (招へい准教授)

学位: 博士（工学）(早稲田大学)

J-GLOBAL ID: 200901058668694507
researchmap会員ID: 6000012062

研究キーワード

研究分野

経歴

2022年7月 - 現在

大阪大学, アルバック未来技術協働研究所, 室長 (招へい准教授)
2020年4月 - 2022年6月

大阪大学, 大学院工学研究科物理学系専攻, 助教
2010年10月 - 2020年3月

大阪大学, 大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻, 助教
2008年4月 - 2010年9月

早稲田大学, 理工学術院, 助手

学歴

2007年4月 - 2010年3月

早稲田大学, 先進理工学研究科, ナノ理工学専攻
2005年4月 - 2007年3月

早稲田大学, 理工学研究科, ナノ理工学専攻
- 2005年3月

早稲田大学, 理工学部, 電子・情報通信学科

委員歴

受賞

2021年3月

2021年度精密工学会春季大会学術講演会ベストプレゼンテーション賞, DNA シーケンシングデバイスのためのマイクロ流路を用いたナノピラー/横型ナノポア集積化プロセスの開発, 精密工学会

野田晃平, 辻友希, 杉田祥吾, 山村和也, 有馬健太, 川合健太郎
2019年4月

IEEE NEMS 2019 Finalist of Best Conference Paper Award, DNA origami assembly in gradient tempareture microfluidic channel, IEEE NEMS

K. Kawai, K. Hara, K. Arima, K. Yamamura, O. Tabata
2019年4月

IEEE-NEMS 2019 Finalist of CM Ho Best Paper Award in Micro/Nano-Fluidics, DNA origami assembly in gradient tempareture microfluidic channel, IEEE-NEMS

K. Kawai, K. Hara, K. Arima, K. Yamamura, O. Tabata
2018年4月

IEEE-NEMS 2018 Finalist of CM Ho Best Paper Award in Micro/Nano-Fluidics, Nanopore Fabrication and DNA sensing on Two-Dimensional Materials using Helium Ion Microscopy, IEEE-NEMS

K. Kawai
2018年

精密工学会2018年度関西地方定期学術講演会ベストポスタープレゼンテーション賞, マイクロ流路を用いたDNAオリガミ作製の高速化, 精密工学会度関西支部

原啓太, 有馬健太, 山村和也, 川合健太郎, 稲垣達也, 山下直輝, 田畑修
2017年

CUPAL 優秀活動賞, Nanotech CUPAL 運営協議会
2008年

第18回化学とマイクロナノシステム研究会優秀ポスター発表賞

論文

138

Electroluminescence in metal-oxide-semiconductor tunnel diodes with a crystalline silicon/silicon dioxide quantum well

Yuki Miyata, Yasunori Nakamukai, Cassia Tiemi Azevedo, Ayano Tsuchida, Miho Morita, Yasushi Oshikane, Junichi Uchikoshi, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Mizuho Morita

Micro and Nanostructures 166 207228-207228 2022年6月
Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing

Nian Liu, Kentaro Sugimoto, Naoya Yoshitaka, Hideaki Yamada, Rongyan Sun, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Diamond and Related Materials 124 108899-108899 2022年4月
Nanocarbon-Induced Etching Property of Semiconductor Surfaces: Testing Nanocarbon’s Catalytic Activity for Oxygen Reduction Reaction at a Single-Sheet Level

Ayumi Ogasawara, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

ECS Journal of Solid State Science and Technology 11(4) 041001-041001 2022年4月1日
Separation of Neighboring Terraces on a Flattened Si(111) Surface by Selective Etching along Step Edges Using Total Wet Chemical Processing

Zhida Ma, Seiya Masumoto, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

Langmuir 38(12) 3748-3754 2022年3月29日
Charge Utilization Efficiency and Side Reactions in the Electrochemical Mechanical Polishing of 4H-SiC (0001)

Xiaozhe Yang, Xu Yang, Haiyang Gu, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Journal of The Electrochemical Society 169(2) 023501-023501 2022年2月1日
Comparison of surface and subsurface damage of mosaic single-crystal diamond substrate processed by mechanical and plasma-assisted polishing

Nian Liu, Hideaki Yamada, Naoya Yoshitaka, Kentaro Sugimoto, Rongyan Sun, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Diamond and Related Materials 119 108555-108555 2021年11月
Novel highly-efficient and dress-free polishing technique with plasma-assisted surface modification and dressing

Rongyan Sun, Atsunori Nozoe, Junji Nagahashi, Kenta Arima, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura

Precision Engineering 72 224-236 2021年11月
Dominant factors and their action mechanisms on material removal rate in electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surface

Xiaozhe Yang, Xu Yang, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Applied Surface Science 562 150130-150130 2021年10月
Selective Etching of Semiconductor Surfaces by Catalytic Activity of Nanocarbon

Ryo MIKURINO, Ayumi OGASAWARA, Kentaro KAWAI, Kazuya YAMAMURA, Kenta ARIMA

Vacuum and Surface Science 64(8) 352-357 2021年8月10日
Atomic-scale insights into the origin of rectangular lattice in nanographene probed by scanning tunneling microscopy

Junhuan Li, Shaoxian Li, Tomoki Higashi, Kentaro Kawai, Kouji Inagaki, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

Physical Review B 103(24) 2021年6月24日
Damage-free highly efficient plasma-assisted polishing of a 20-mm square large mosaic single crystal diamond substrate

Nian Liu, Kohki Sugawara, Naoya Yoshitaka, Hideaki Yamada, Daisuke Takeuchi, Yuko Akabane, Kenichi Fujino, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Scientific Reports 10(1) 2020年12月
Surface-enhanced Raman spectroscopy with gold nanoparticle dimers created by sacrificial DNA origami technique

Naoki Yamashita, Seongsu Park, Kentaro Kawai, Yoshikazu Hirai, Toshiyuki Tsuchiya, Osamu Tabata

MICRO & NANO LETTERS 15(6) 384-389 2020年5月
Catalytic Properties of Chemically Modified Graphene Sheets to Enhance Etching of Ge Surface in Water

Ryo Mikurino, Ayumi Ogasawara, Tomoki Hirano, Yuki Nakata, Hiroto Yamashita, Shaoxian Li, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima

The Journal of Physical Chemistry C 124(11) 6121-6129 2020年3月19日査読有り
High-quality plasma-assisted polishing of aluminum nitride ceramic

Rongyan Sun, Xu Yang, Kenta Arima, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura

CIRP Annals 69(1) 301-304 2020年
Obtaining Atomically Smooth 4H–SiC (0001) Surface by Controlling Balance Between Anodizing and Polishing in Electrochemical Mechanical Polishing

Xu Yang, Xiaozhe Yang, Rongyan Sun, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura

Nanomanufacturing and Metrology 2(3) 140-147 2019年9月
Etching Characteristics of Quartz Crystal Wafers Using Argon-Based Atmospheric Pressure CF4 Plasma Stabilized by Ethanol Addition

Rongyan Sun, Xu Yang, Keiichiro Watanabe, Shiro Miyazaki, Toru Fukano, Masanobu Kitada, Kenta Arima, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura

Nanomanufacturing and Metrology 2(3) 168-176 2019年9月
Highly efficient planarization of sliced 4H-SiC (0001) wafer by slurryless electrochemical mechanical polishing

Yang Xu, Yang Xiaozhe, Kawai Kentaro, Arima Kenta, Yamamura Kazuya

INTERNATIONAL JOURNAL OF MACHINE TOOLS & MANUFACTURE 144 2019年9月査読有り
Improvements in graphene growth on 4H-SiC(0001) using plasma induced surface oxidation

Minami Ouki, Ito Ryota, Hosoo Kohei, Ochi Makoto, Sano Yasuhisa, Kawai Kentaro, Yamamura Kazuya, Arima Kenta

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 126(6) 065301-1-065301-10 2019年8月14日査読有り
Rapid Assembly of DNA Origami in Microfluidic Temperature Gradient

Kentaro Kawai, Hara Keita, Ryota Nakamura, Kenta Arima, Kazuya Yamamura, Osamu Tabata

2019 20th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems and Eurosensors XXXIII, TRANSDUCERS 2019 and EUROSENSORS XXXIII 398-401 2019年6月
Ultrasonic-assisted anodic oxidation of 4H-SiC (0001) surface

Yang Xiaozhe, Yang Xu, Kawai Kentaro, Arima Kenta, Yamamura Kazuya

ELECTROCHEMISTRY COMMUNICATIONS 100 1-5 2019年3月査読有り

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MISC

102

プラズマ援用研磨法の開発(第25報)-RS-SiC材のSiC成分とSi成分の酸化レートの評価-

陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2022 2022年
プラズマ援用研磨法の開発(第24報)-CF₄プラズマ照射前後におけるAlN基板とダイヤモンド砥粒との吸着力の変化-

孫栄硯, 陶通, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2022 2022年
プラズマ援用研磨による多結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦・平滑化に関する研究(第1報)

杉本健太郎, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

砥粒加工学会学術講演会講演論文集(CD-ROM) 2022 2022年
Si表面の溝底部に埋め込んだ金属原子からの光電子検出~光電子検出量の脱出角依存性の検討~

東知樹, 孫栄硯, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集 2022 2022年
プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー加工-研磨レートおよび表面性状の研磨圧力依存性および摺動速度依存性に関する検討-

杉本健太郎, 劉念, 吉鷹直也, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集 2022 2022年
第一原理計算を用いたナノグラフエン上の特異な超構造電子状態の解析

李君寰, 稲垣耕司, 川合健太郎, 孫栄硯, 山村和也, 有馬健太

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集 2022 2022年
プラズマ援用研磨による多結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦・平滑化に関する研究(第1報)

杉本健太郎, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2022 2022年
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第14報)-PCVMにおける加工温度と表面粗さの相関-

須場健太, 山本有悟, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 丸山龍治, 曽山和彦, 林田洋寿

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2022 2022年
サブ分子層の吸着水がGeO₂/Ge界面の電気特性に与える影響の超精密計測

佐野修斗, 和田陽平, 孫栄硯, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集 2022 2022年
数値制御プラズマCVMによるWolterミラーマンドレルの高精度加工

須場健太, 山本有悟, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 丸山龍治, 曽山和彦, 林田洋寿

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集 2022 2022年
プラズマ援用研磨法の開発(第21報)-ビトリファイドボンド砥石を用いたドレスフリー研磨法の開発-

孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 永橋潤司, 野副厚訓

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2021 2021年
減圧プラズマフッ化における焼結AlN基板のフッ化レートの評価

孫栄硯, 陶通, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集 2021 2021年
減圧プラズマ酸化における反応焼結SiCの酸化特性

陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集 2021 2021年
プラズマCVM加工におけるガス組成と最適加工ギャップの関係

北出隼人, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集 2021 2021年
窒化アルミニウムセラミックス材のプラズマ援用研磨に関する研究-異なる粒径のビトリファイドボンドダイヤモンド砥石を用いたAlN基板の研磨特性-

陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

砥粒加工学会学術講演会講演論文集(CD-ROM) 2021 2021年
プラズマ援用研磨法の開発(第22報)-フッ素系ガスを用いたプラズマ援用研磨における砥石成分の付着抑制-

孫栄硯, 陶通, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2021 2021年
マイクロ波プラズマジェット型プラズマCVMにおける加工痕形状の考察

北出隼人, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2021 2021年
プラズマ援用研磨法の開発(第23報)-AlN基板の研磨における砥粒材質と研磨特性の相関-

陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2021 2021年
プラズマ援用研磨法の開発(第19報)-AlN基板の研磨特性の評価-

孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2020 2020年
プラズマ援用研磨法の開発(第20報)-焼結AlN基板の脱粒フリー研磨-

孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2020 2020年

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書籍等出版物

超精密加工と表面科学

超精密加工専門委員会編 (担当:共著)

大阪大学出版会 2014年3月 (ISBN: 9784872594652)
Topics in Current Chemistry 304, Flow Control Methods and Devices in Micrometer Scale Channels

Shuichi Shoji, Kentaro Kawai (担当:共著)

Springer 2011年4月
BIO INDUSTRY 第27巻、No. 3、大規模集積流体システム

庄子習一, 川合健太郎 (担当:共著)

CMC出版 2010年3月
細胞分離・操作技術の最前線

福田敏男, 新井史人 (担当:共著)

CMC出版 2008年4月

担当経験のある科目(授業)

2011年 - 2022年

工学における安全と倫理 (大阪大学)
2011年 - 2022年

精密工学演習Ⅰ-Ⅳ (大阪大学)
2010年 - 2022年

精密科学実験 (大阪大学)
2011年 - 2021年

ゼミナールⅡ・Ⅲ (大阪大学)
2010年 - 2021年

数学解析演習ⅠI (大阪大学)
2020年4月 - 2020年8月

学問への扉 (大阪大学)
2019年 - 2020年

先端科学序論II (大阪大学)
2010年 - 2017年

数学解析演習Ⅰ (大阪大学)
2014年 - 2014年

Introduction to Precision Science and Technology (Osaka University)
2008年 - 2010年

理工学基礎実験I B (早稲田大学)
2008年 - 2010年

理工学基礎実験II A (早稲田大学)

所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

マイクロナノ融合プロセスによる光電気複合型ナノポアセンサデバイスの基盤技術構築

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2019年4月 - 2022年3月

田畑修, 菅野公二, 山下直輝, 川合健太郎
二硫化モリブデンによる二次元単結晶半導体極薄膜ナノポアセンシング

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 基盤研究(C) 2019年4月 - 2022年3月

川合健太郎
ナノ分子メカニクスを用いたバイオハイブリッドグラフェンナノポアセンシング

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(B) 若手研究(B) 2017年4月 - 2019年3月

川合健太郎
MEMSとDNA融合プロセスによる光電気複合型ナノポアセンサデバイスの基盤構築

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2016年4月 - 2019年3月

田畑修, 菅野公二, 川合健太郎
求電子型フッ素化剤光反応による機能デバイス半導体表面の三次元形状創成加工

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2014年4月 - 2017年3月

森田瑞穂, 川合健太郎, 足達健二
マイクロ流体回路を用いた空気圧アクチュエータ制御による自律ロボット駆動系の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(B) 若手研究(B) 2012年4月 - 2014年3月

川合健太郎
フッ素化剤－シリコン界面反応によるシリコン表面の精密位置合わせ光転写形状創成加工

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 基盤研究(C) 2011年 - 2013年

打越純一, 森田瑞穂, 川合健太郎

産業財産権

特開2021-038434 自立グラフェン膜の製造方法

川合健太郎
特開2021-034608 TFT素子の配列方法および配列装置

川合健太郎
特開2016-162983 エッチング処理用組成物及びエッチング処理方法

川合健太郎, 森田瑞穂, 足達健二, 永井隆文
特開2015-165037 陽極化成処理による多孔質シリコン基板の製造方法

川合健太郎, 森田瑞穂, 打越純一, 足達健二, 永井隆文
特開2015-165526 シリコン基板

森田瑞穂, 川合健太郎, 打越純一, 足達健二, 永井隆文
特許第5703302号細胞培養容器及びその容器を用いた細胞培養方法

務中達也, 阿部浩久, 叶井正樹, 明地将一, 前川平, 木村晋也, 芦原英司, 庄子習一, 川合健太郎
特許第4866208号マイクロ反応装置

庄子習一, 川合健太郎, 叶井正樹

学術貢献活動

IEEE-NEMS program comitee

査読

IEEE 2017年 - 2020年
超精密加工専門委員会第６５回研究会

企画立案・運営等

超精密加工専門委員会 2013年1月29日 - 2013年1月29日
精密工学会平成29年度秋季大会実行委員

企画立案・運営等

精密工学会

川合健太郎

基本情報

研究キーワード

研究分野

経歴

学歴

委員歴

受賞

論文

MISC

書籍等出版物

担当経験のある科目(授業)

所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

産業財産権

学術貢献活動

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