招待有り 2018年12月 先端CMOS/メモリデバイスにおけるプラズマ加工技術の現状と課題 応用物理 江利口 浩二, 占部 継一郎 巻 87 号 12 開始ページ 895 終了ページ 901 記述言語 日本語 掲載種別 記事・総説・解説・論説等（学術雑誌） エクスポート BibTeX RIS
