占部 継一郎
ウラベ ケイイチロウ (Keiichiro URABE)
更新日: 02/13
論文
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PLASMA SOURCES SCIENCE AND TECHNOLOGY 33(2) 025011 2024年2月 査読有り筆頭著者責任著者
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62(SI) SI1010 2023年5月 査読有り最終著者
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JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY B 40(6) 062209 2022年11月 査読有り
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 61(10) 106002 2022年9月 査読有り責任著者
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 61(SI) SI1014 2022年7月 査読有り
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IEEE JOURNAL OF THE ELECTEON DEVICES SOCIETY 10 769-777 2022年5月 査読有り招待有り
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Quantitative evaluation of plasma-damaged SiN/Si structures using bias-dependent admittance analysisJOURNAL OF APPLIED PHYSICS 131(13) 133302 2022年4月 査読有り
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APPLIED PHYSICS LETTERS 120(3) 031904 2022年1月 査読有り
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 59(SJ) SJJC02 2020年6月 査読有り
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PLASMA SOURCES SCIENCE AND TECHNOLOGY 29(2) 025017 2020年3月 査読有り
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JOURNAL OF INSTRUMENTATION 15(1) C01004 2020年1月 査読有り
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JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY B 38(1) 012205 2019年12月 査読有り
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JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS 52(45) 455102 2019年8月 査読有り
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SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY 377 124854 2019年8月 査読有り
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PLASMA PROCESS AND POLYMERS 16(9) 1900058-1900058 2019年6月 査読有り
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JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A 37(1) 011304 2018年12月 査読有り
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JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS 52(2) 025201 2018年10月 査読有り
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JOURNAL OF INSTRUMENTATION 12(12) C12028 2017年12月 査読有り
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JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS 50(16) 165201 2017年4月 査読有り
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PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY 25(4) 045004 2016年8月 査読有り筆頭著者