論文

査読有り 国際誌
2010年6月

Effect of Series Capacitance and Accumulated Charge on a Substrate in a Deposition Process with an Atmospheric-Pressure Plasma Jet

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
  • Yosuke Ito
    • ,
  • Yutaka Fukui
    • ,
  • Keiichiro Urabe
    • ,
  • Osamu Sakai
    • ,
  • Kunihide Tachibana
巻
49
号
6
開始ページ
066201
終了ページ
記述言語
英語
掲載種別
研究論文（学術雑誌）
DOI
10.1143/JJAP.49.066201
リンク情報
DOI
https://doi.org/10.1143/JJAP.49.066201
Web of Science
https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=JSTA_CEL&SrcApp=J_Gate_JST&DestLinkType=FullRecord&KeyUT=WOS:000278963000062&DestApp=WOS_CPL
ID情報
  • DOI : 10.1143/JJAP.49.066201
  • ISSN : 0021-4922
  • Web of Science ID : WOS:000278963000062
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