古澤孝弘 (TAKAHIRO KOZAWA) - マイポータル

基本情報

所属: 大阪大学産業科学研究所教授

学位: 工学博士(2003年1月大阪大学)

J-GLOBAL ID: 202001007586027370
researchmap会員ID: R000001856

研究キーワード

研究分野

経歴

2011年6月 - 現在

大阪大学産業科学研究所, 教授
2007年4月 - 2011年5月

大阪大学産業科学研究所, 准教授
2003年4月 - 2007年3月

大阪大学産業科学研究所, 助教授
1996年6月 - 2002年3月

大阪大学産業科学研究所, 助手
1993年4月 - 1996年5月

東京大学工学部附属原子力工学研究施設, 助手

学歴

2003年1月

工学博士
1992年4月 - 1993年3月

東京大学大学院工学系研究科原子力工学専攻博士課程退学
1990年4月 - 1992年3月

東京大学大学院工学系研究科原子力工学専攻修士課程修了
- 1990年3月

東京大学工学部原子力工学科卒業
- 1985年3月

智弁学園高等学校卒業

受賞

2010年3月

論文賞, 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会
2008年10月

Most Impressive Presentation, 20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2007)
2008年10月

学術賞, 日本放射線化学会

論文

396

Automatic evaluation of line-and-space resist patterns with defects using image recognition technology

Yuqing Jin, Takahiro Kozawa, Kota Aoki, Tomoya Nakamura, Yasushi Makihara, Yasushi Yagi

International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023 2023年11月21日
Sensitization of polymethacrylate resist with adding acid-generating promoters upon exposure to EUV light

Kazumasa Okamoto, Akihiro Konda, Yuki Ishimaru, Takahiro Kozawa, Yasunobu Nakagawa, Masamichi Nishimura

Japanese Journal of Applied Physics 62(11) 116503-116503 2023年11月1日責任著者
Effects of underlayer absorption coefficient on bridging risk in chemically amplified resist process for extreme ultraviolet lithography

Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 62(11) 116502-116502 2023年11月1日筆頭著者責任著者
Analysis of resist images with pattern defects by Hough transform

Yuqing Jin, Takahiro KOZAWA, Kota Aoki, Tomoya Nakamura, Yasushi Makihara, Yasushi Yagi

Japanese Journal of Applied Physics 2023年7月24日査読有り責任著者
Reaction mechanisms of Sn-complex-side-chain polymer used for extreme ultraviolet lithography, studied by electron pulse radiolysis and γ-radiolysis

Yui Takata, Yusa Muroya, Takahiro Kozawa, Kohei Machida, Satoshi Enomoto, Bilal Naqvi, Danilo De Simone

Japanese Journal of Applied Physics 62(7) 076502-076502 2023年7月1日査読有り責任著者
Defect risks at interfaces of chemically amplified resists in extreme ultraviolet lithography process

Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 62(7) 076501-076501 2023年7月1日査読有り責任著者
Classification of dissolution modes of partially protected poly(4-hydroxystyrene) in tetraalkylammonium hydroxide aqueous solutions

Hitomi Betsumiya, Yuqing Jin, Yuko Tsutsui Ito, Takahiro Kozawa, Kazuo Sakamoto, Makoto Muramatsu

Japanese Journal of Applied Physics 62(6) 066501-066501 2023年6月8日査読有り責任著者
Photoresist stochastic defect generation depending on alkyl chain length and concentration of tetraalkylammonium hydroxide in alkali aqueous developer

Masahiko Harumoto, Andreia Figueiredo dos Santos, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani, Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 62 SG1037 2023年3月23日査読有り責任著者
Effects of photoacid generator decomposition on dissolution kinetics of poly(4-hydroxystyrene) in tetraalkylammonium hydroxide aqueous solutions

Yutaro Iwashige, Yuko Tsutsui Ito, Takahiro Kozawa, Kazuo Sakamoto, Makoto Muramatsu

Japanese Journal of Applied Physics 62(3) 036502-036502 2023年3月10日査読有り責任著者
Stochastic defect generation depending on tetraalkylhydroxide aqueous developers in extreme ultraviolet lithography

Masahiko Harumoto, Andreia Figueiredo dos Santos, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani, Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 62(1) 016503-016503 2023年1月6日査読有り責任著者
Protected unit distribution near interfaces of chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography

Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 62(1) 016509-016509 2023年1月査読有り筆頭著者
Interfacial effects on sensitization of chemically amplified extreme ultraviolet resists

Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 61(11) 116501-116501 2022年10月18日査読有り責任著者
Theoretical study on defect risks of chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography

Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 61(10) 106502-106502 2022年9月21日査読有り
Electrostatic effect on the dissolution kinetics of poly(4-hydroxystyrene) in alkaline aqueous solution

Naoki Tanaka, Takahiro Kozawa, Takuya Ikeda, Yoshitaka Komuro, Daisuke Kawana

Japanese Journal of Applied Physics 61(8) 086509-086509 2022年8月2日査読有り責任著者
Sensitization mechanism of metal oxide nanocluster resists with carboxylic acid ligands

Tomoe Otsuka, Yusa Muroya, Takuya Ikeda, Yoshitaka Komuro, Daisuke Kawana, Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 61(8) 086508-086508 2022年8月1日査読有り
Dependence of Dissolution Kinetics of Main-Chain Scission Type Resists on Molecular Weight

Akihiro Konda, Hiroki Yamamoto, Shusuke Yoshitake, Takahiro Kozawa

Journal of Photopolymer Science and Technology 35 1-7 2022年6月査読有り責任著者
Synthesis and Resist Sensitive Property of Iodine-Containing Materials using Extreme Ultraviolet(EUV) Exposure Tool

Yutaro Iwashige, Hiroto Kudo, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 41-47 2022年6月査読有り
Study on deprotonation from radiation-induced ionized acrylate polymers including acid-generation promoters for improving chemically amplified resists

Kazumasa Okamoto, Akihiro Konda, Yuki Ishimaru, Takahiro Kozawa, Yasunobu Nakagawa, Masamichi Nishimura

Japanese Journal of Applied Physics 61(6) 066505-066505 2022年6月1日査読有り
Swelling and dissolution kinetics of poly(4-hydroxystyrene) in tetrabutylammonium hydroxide (TBAH) aqueous solutions studied by quartz crystal microbalance (QCM) method—in comparison with tetramethylammonium hydroxide (TMAH) aqueous solutions

Yuko Tsutsui Ito, Hitomi Betsumiya, Takahiro Kozawa, Kazuo Sakamoto, Makoto Muramatsu

Japanese Journal of Applied Physics 61(6) 066506-066506 2022年6月1日査読有り
Estimation of effective reaction radius for catalytic chain reaction of chemically amplified resist by Bayesian optimization

Yuqing Jin, Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 61(6) 066504-066504 2022年6月1日査読有り

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MISC

198

Chemical information extraction from scanning electron microscopy images on the basis of image recognition

Yuqing Jin, Takahiro Kozawa, Kota Aoki, Tomoya Nakamura, Yasushi Makihara, Yasushi Yagi

Advances in Patterning Materials and Processes XL 12498 1249825 2023年5月1日査読有り
水酸化フラーレンを保護剤とした卑金属ナノ粒子の調製検討

重政凌亮, SUGIANTO Wildatus Sa’diyah, 植竹裕太, 植竹裕太, 室屋裕佐, 古澤孝弘, 櫻井英博, 櫻井英博

日本化学会春季年会講演予稿集(Web) 103rd 2023年
スズ含有レジストの放射線誘起反応機構の解明

高田結以, 室屋裕佐, 古澤孝弘, 榎本智至, NAQVI Bilal, DE DANILO Simone

日本原子力学会秋の大会予稿集(CD-ROM) 2022 2022年
極端紫外光(EUV)リソグラフィ用のマスク作製

山本洋揮, 古澤孝弘

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 83rd 2022年
トラック拡散モデル計算による高温水の中性子ラジオリシス初期過程の研究

室屋裕佐, 和田陽一, 石田一成, 清水亮介, 古澤孝弘

放射線化学討論会講演要旨集 65th (CD-ROM) 2022年
ポリスチレンの正電荷非局在性へのパルスラジオリシスおよびシミュレーションによるアプローチ

岡本一将, 山本洋揮, 山本洋揮, 古澤孝弘

日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM) 2022 2022年
鉛ペロブスカイト太陽電池の電子線照射効果

村上誉幸, 石割文崇, 岡本一将, 古澤孝弘, 佐伯昭紀

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年
フォトポリマー懇話会ニュースレター

古澤孝弘

92 1-3 2020年10月筆頭著者
Cu錯体をベースとしたレジスト材料の電子線誘起反応

中島綾子, 古澤孝弘

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2020.1 1518-1518 2020年2月28日
化学増幅型レジストの電子線照射による膜厚依存性

前田尚輝, 岡本一将, 井狩優太, 誉田明宏, 古澤孝弘, 田村貴央

日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM) 2020 2020年
EUV化学増幅型レジストにおける感度向上へのメタル増感剤の役割

山本洋揮, VESTERS Yannick, VESTERS Yannick, JIANG Jing, DE SIMONE Danilo, VANDENBERGHE Geert, 古澤孝弘

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年
ポリスチレン-フェニルシラン誘導体溶液の電子線パルスラジオリシス

岡本一将, 岡本一将, 堀成生, 大沼正人, 古澤孝弘

日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM) 2019 2019年
ジフェニルスルホン酸生成促進剤による化学増幅型レジストの感度向上

河合俊平, 岡本一将, 大沼正人, 古澤孝弘

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年
軟X線自由電子レーザーによるレジスト材料照射に関する研究

岡本一将, 河合俊平, 堀成生, 井狩優太, 前田尚輝, 誉田明宏, 古澤孝弘, 錦野将元, 石野雅彦, DINH Thanh-Hung …

日本原子力学会秋の大会予稿集(CD-ROM) 2019 2019年
化学増幅レジスト薄膜における電子線照射による熱影響

井狩優太, 岡本一将, 前田尚輝, 誉田明宏, 古澤孝弘, 田村貴央

日本原子力学会秋の大会予稿集(CD-ROM) 2019 2019年
パルスラジオリシス法を用いたレジスト材料の放射線化学初期過程の解明と応用

岡本一将, 古澤孝弘

放射線化学(Web) (107) 2019年
反応性ガスクラスターインジェクションを用いた斜め2方向エッチングによる3D構造の作成

瀬木利夫, 山本洋揮, 古澤孝弘, 荘所正, 小池国彦, 青木学聡, 松尾二郎

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 65th 2018年
極端紫外光リソグラフィを用いた微細加工

古澤孝弘

表面科学学術講演会要旨集 2018 343 2018年
パルスラジオリシスによるフェニルスルホン化合物の放射線化学反応

岡本一将, 岡本一将, 河合俊平, 山本洋揮, 古澤孝弘

日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM) 2018 2018年
フッ素系EUVレジストモデル分子の放射線誘起初期過程

岡本一将, 山本洋揮, 小林一雄, 古澤孝弘

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 79th 2018年

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共同研究・競争的資金等の研究課題

量子ビーム科学とデータ科学の融合によるシングルナノ材料開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 基盤研究(A) 2018年4月 - 2023年3月

古澤孝弘, 室屋裕佐, 岡本一将, 大沼正人
放射線誘起ナノ微細加工における電荷非局在性の影響

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 基盤研究(C) 2015年4月 - 2018年3月

岡本一将, 古澤孝弘
量子ビーム複合利用による最先端微細加工材料のナノ化学の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 基盤研究(A) 2013年4月 - 2018年3月

古澤孝弘, 山本洋揮, 小林一雄, 室屋裕佐
量子ビーム複合利用によるナノ空間反応および反応場の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 基盤研究(A) 2010年 - 2012年

古澤孝弘, 楊金峰, 小林一雄, 山本洋揮
凝縮相における熱化電子の大きさの研究

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究挑戦的萌芽研究 2009年 - 2011年

古澤孝弘, 山本洋揮
極端紫外光による超微細加工実現へ向けた学術基盤確立のためのナノ空間反応研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2007年 - 2009年

古澤孝弘, 佐伯昭紀
フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(S) 基盤研究(S) 2005年 - 2008年

田川精一, 古澤孝弘, 関修平, 佐伯昭紀, 岡本一将, 山本洋揮
フェムト秒パルスラジオリシスによる極限ナノビームプロセスの創生

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(B) 若手研究(B) 2004年 - 2006年

古澤孝弘
サブフェムト秒・アト秒電子線励起時間分解吸収分光法の基礎研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 基盤研究(A) 2003年 - 2005年

吉田陽一, 田川精一, 古澤孝弘, 関修平, 誉田義英, 楊金峰
孤立したナノ構造体・分子素子の電極レス伝導度評価技術の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業萌芽研究萌芽研究 2003年 - 2005年

関修平, 古澤孝弘, 丑田公規, 砂川武義, 佐伯昭紀
フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ構造内反応機構の解明

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 基盤研究(A) 2002年 - 2004年

田川精一, 吉田陽一, 関修平, 佐伯昭紀
サブピコ秒パルスラジオリシス法によるナノリソグラフィ材料の反応機構の解明と開発

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(B) 若手研究(B) 2002年 - 2003年

古澤孝弘
フェムト秒量子ビーム複合利用による水溶液の放射線化学初期過程の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 基盤研究(A) 1999年 - 2001年

田川精一, 小林一雄, 奥田修一, 吉田陽一
レーザー同期パルスラジオリシス法による放射線化学初期過程の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 基盤研究(C) 1997年 - 1998年

吉田陽一, 関修平, 古澤孝弘, 三木美弥子, 田川精一
次世代Xバンド加速によるフェムト秒ライナックの設計

日本学術振興会科学研究費助成事業奨励研究(A) 奨励研究(A) 1996年 - 1996年

古澤孝弘
超高電界レーザープラズマ加速器の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業国際学術研究国際学術研究 1995年 - 1996年

小方厚, CORBUNOV Leo, ANDREEV Niko, SIDERS Craig, DOWNER Miche, 古沢孝弘, 川久保忠通, 中西弘, 中島一久, KIRSANOV Vic, FALCONE Roge, TAJIMA Toshi, GORBUNOV Leo, MOUROU Geral, MILCHBERG Ho, LEEMANS Wim, WURTELE Jona, CROS Brigitt, WHITTUM Davi, SHATOPADHYAY シャボン, FISHER David, PERRY Mike, KATSOULEAS T, DANGOR A.E., GORUBUNOV Le, SIDERS Claig, MATHIEUSSENT ジル, 田島俊樹
サブピコ秒放射線物質相互作用の解明

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 1995年 - 1996年

上坂充, 古澤孝弘, 広石大介, 柴田裕実, 勝村庸介
化学増幅型レジストの放射線誘起反応機構の解明

日本学術振興会科学研究費助成事業奨励研究(A) 奨励研究(A) 1994年 - 1994年

古澤孝弘

産業財産権

特開2023-122060 ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物、それを用いたデバイスの製造方法。

榎本智至, 町田康平, 古澤孝弘
特許第7168952号レジストパターン形成方法

堤隆志, 古澤孝弘
特許第7121943号レジストパターン形成方法

星野学, 古澤孝弘
特開2021-081657 レジスト組成物及びレジスト組成物の製造方法

中島綾子, 古澤孝弘, 星野学
WO2020-170555 ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物、それを用いた部材の製造方法、パターン形成方法及び反転パターンの形成方法

榎本智至, 古澤孝弘, 町田康平, 内藤倫哉
特開2019-211532 レジストパターン形成方法

堤隆志, 古澤孝弘
特開2019-191454 レジストパターン形成方法

星野学, 古澤孝弘
特許第5447775号極端紫外光による薄膜の吸収係数を測定する支持膜形成組成物及び測定方法

古澤孝弘, 竹井敏, 田川精一
特開2010-152067 極端紫外光による薄膜の吸収係数を測定する支持膜形成組成物及び測定方法

古澤孝弘, 竹井敏, 田川精一
特開平8-096993 パルス電流センサヘッド、パルス電流位置検出装置、およびパルス電流プロファイル計測装置

小林利明, 古澤孝弘, 上田徹, 宮健三, 上坂充, 小林仁, 田川精一, 吉田陽一

古澤孝弘

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