山本雅史 (Masashi Yamamoto) - マイポータル

基本情報

所属: 香川高等専門学校電気情報工学科准教授

学位: 博士（工学）

J-GLOBAL ID: 201401055591145298
researchmap会員ID: B000236303

研究キーワード

研究分野

論文

Effects of hydrogen radical treatment on piezoresistance coefficients of germanium

Kazunori Matsuda, Masashi Yamamoto, Michio Mikawa, Shiro Nagaoka, Nobuya Mori, Kazuo Tsutsui

Applied Physics Express 16(4) 2023年4月
Investigation of Pressure Dependence in Photoresist Ashing Process using Microwave Excited Water Vapor Plasma

Khant Nyar Paing, Takeshi Aizawa, Hiroto Nishioka, Masashi Yamamoto, Tasuku Sakurai, Bat Orgil Erdenezaya, Yusuke Kayamori, Yusuke Nakano, Yasunori Tanaka, Tatsuo Ishijima

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(4) 371-374 2022年
Development of Bile Duct Stent with Antifouling Property Using Atmospheric Pressure and Low Temperature Plasma

Masashi Yamamoto, Tomoyuki Hamasaki, Atsushi Sekiguchi, Hiroko Minami, Masayasu Aikawa, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(3) 233-239 2022年
Removal of novolac photoresist with various concentrations of photo-active compound using h<inf>2</inf>/o<inf>2</inf> mixtures activated on a tungsten hot-wire catalyst

Koki Akita, Shota Sogo, Ryusei Sogame, Masashi Yamamoto, Shiro Nagaoka, Hironobu Umemoto, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 34(5) 499-504 2021年
Development of Bile Direct Stent Having Antifouling Properties by Atmospheric Pressure Low-Temperature Plasma

Atsushi Sekiguchi, Masashi Yamamoto, Takuya Kumagai, Youichiro Mori, Hiroko Minami, Masayasu Aikawa, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 34(4) 401-410 2021年
Microstructure Formation on Poly (Methyl Methacrylate) Film Using Atmospheric Pressure Low-Temperature Plasma

Masashi Yamamoto, Youichiro Mori, Takuya Kumagai, Atsushi Sekiguch, Hiroko Minami, Hideo Horibe

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 34(4) 385-392 2021年
Effects of nitrogen dilution on the photoresist removal rate by hydrogen radicals

Masashi Yamamoto, Hiroto Nishioka, Koki Akita, Shiro Nagaoka, Hironobu Umemoto, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 33(4) 427-431 2020年
Evaluation of decomposition property of photoresist by oxygen radicals using helium-oxygen mixtures

Masashi Yamamoto, Koki Akita, Shiro Nagaoka, Hironobu Umemoto, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 33(4) 433-437 2020年
Photoresist removal using hydrogen radicals produced by tantalum hot-wire catalyst

Masashi Yamamoto, Tomohiro Shiroi, Tomokazu Shikama, Shiro Nagaoka, Hideo Horibe

AIP Conference Proceedings 2151 2019年8月29日査読有り
Oxygen additive effects on decomposition rate of poly(vinyl phenol)-based polymers using hydrogen radicals produced by a tungsten hot-wire catalyst

Masashi Yamamoto, Shiro Nagaoka, Keisuke Ohdaira, Hironobu Umemoto, Hideo Horibe

Thin Solid Films 679 22-26 2019年6月1日査読有り
Relationship between oxygen additive amount and photoresist removal rate using h radicals generated on an iridium hot-wire catalyst

Masashi Yamamoto, Tomohiro Shiroi, Tomokazu Shikama, Shiro Nagaoka, Hironobu Umemoto, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 32(4) 609-614 2019年査読有り
Investigation of bulk laser damage and absorption of laser light in CsLiB6O10 crystals

T Kamimura, M Yamamoto, S Akamatsu, M Nishioka, M Yoshimura, Y Mori, T Sasaki, K Yoshida

LASER-INDUCED DAMAGE IN OPTICAL MATERIALS: 2003 5273 445-445 2003年査読有り

MISC

水蒸気プラズマによるポリスチレン系ポリマーの除去

山地恭平, 山本雅史, PAING Khant Nyar, 相澤洸, 石島達夫, 堀邊英夫

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 84th 2023年
理科室で構築する工学教育用半導体デバイス設計製作評価環境

長岡史郎, 山本雅史, 鹿間共一, 清水共, JOHNSTON Robert, 松田和典, 下川房男, 堀邊英夫

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 67th 2020年
電子線レジストの感度曲線を用いたレジスト解像度パタンのモンテカルロシミュレーション

宮崎翔, 山本雅史, 河田純, 堀邊英夫, 長岡史郎

計測自動制御学会システムインテグレーション部門講演会(CD-ROM) 20th 2019年
メゾスコピック構造と界面物性制御:原子状水素によるPMMA薄膜改質

松尾朱莉, 高木誠司, 西山聖, 山本雅史, 佐藤絵理子, 堀邊英夫

放射線化学討論会講演要旨集 61st 2018年
Fabrication of mesoscopic structure on PMMA surface by atomic hydrogen and evaluation of the surface functionality

Akari Matsuo, Seiji Takagi, Takashi Nishiyama, Masashi Yamamoto, Eriko Sato, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 31(3) 369-372 2018年査読有り
Removal of polymers for KrF and arf photoresist using hydrogen radicals containing a small amount of oxidizing radicals

Masashi Yamamoto, Tomohiro Taki, Takuto Sunada, Tomokazu Shikama, Shiro Nagaoka, Hironobu Umemoto, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 31(3) 419-424 2018年査読有り
Photoresist Removal Using H Radicals Generated by Iridium Hot-Wire Catalyst

Masashi Yamamoto, Shiro Nagaoka, Hironobu Umemoto, Keisuke Ohdaira, Takashi Nishiyama, Hideo Horibe

International Journal of Polymer Science 2017 2017年査読有り
Pressure dependence of photoresist removal rate using hydrogen radicals

Masashi Yamamoto, Tomohiro Shiroi, Shiro Nagaoka, Tomokazu Shikama, Hironobu Umemoto, Keisuke Ohdaira, Seiji Takagi, Takashi Nishiyama, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 30(3) 297-301 2017年査読有り
水素ラジカルを用いたレジスト除去における除去速度の圧力依存性

城井智弘, 山本雅史, 長岡史郎, 鹿間共一, 梅本宏信, 大平圭介, 西山聖, 堀邊英夫

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 64th ROMBUNNO.14p‐316‐5 2017年
原子状水素を用いたポリマー膜表面へのメゾスコピック構造形成と表面特性の評価

西山聖, 高木誠司, 佐藤絵理子, 堀邊英夫, 山本雅史, 緒方寿幸

高分子学会予稿集(CD-ROM) 66(2) ROMBUNNO.1Y12 2017年
Oxygen additive amount dependence of rate of photoresist removal by H radicals generated on a tungsten hot-wire catalyst

Masashi Yamamoto, Hironobu Umemoto, Keisuke Ohdaira, Tomokazu Shikama, Takashi Nishiyama, Hideo Horibe

Japanese Journal of Applied Physics 55(7) 076503.1‐076503.5 2016年7月査読有り
Effect of temperature on degradation of polymers for photoresist using ozone microbubbles

Kohei Matsuura, Takashi Nishiyama, Eriko Sato, Masashi Yamamoto, Tomosumi Kamimura, Masayoshi Takahashi, Kunihiko Koike, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 29(4) 623-627 2016年査読有り
Enhancement of removal uniformity by oxygen addition for photoresist removal using h radicals generated on a tungsten hot-wire catalyst

Masashi Yamamoto, Kazuma Maejima, Hironobu Umemoto, Keisuke Ohdaira, Tomokazu Shikama, Takashi Nishiyama, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 29(4) 639-642 2016年査読有り
Decomposition process of pmma-based polymer using atomic hydrogen generated by a tungsten hot-wire catalyst

Seiji Takagi, Takashi Nishiyama, Masashi Yamamoto, Eriko Sato, Tomosumi Kamimura, Toshiyuki Ogata, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 29(4) 629-631 2016年査読有り
水素ラジカルによるレジスト除去における除去速度の酸素添加量依存性

山本雅史, 梅本宏信, 大平圭介, 鹿間共一, 西山聖, 堀邊英夫

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 63rd ROMBUNNO.22A-W611-9 2016年
大気圧低温プラズマを用いたレジストの除去

高井智基, 山本雅史, 鹿間共一, 長岡史郎, 西山聖, 堀邊英夫

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 63rd ROMBUNNO.22A-W611-8 2016年
酸素を微量添加した水素ラジカルを用いた“環境にやさしい”レジスト除去技術の開発

山本雅史

山陽放送学術文化財団リポート (60) 16-20 2016年
Degradation of polymers for resist using microbubbles on ozonized water

Kohei Matsuura, Takashi Nishiyama, Eriko Sato, Masashi Yamamoto, Masayoshi Takahashi, Kunihiko Koike, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 28(2) 299-301 2015年8月19日査読有り
Enhancement of photoresist removal rate by using atomic hydrogen generated under low-pressure conditions

Masashi Yamamoto, Hironobu Umemoto, Keisuke Ohdaira, Shiro Nagaoka, Tomokazu Shikama, Takashi Nishiyama, Hideo Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology 28(2) 303-306 2015年8月19日査読有り
Estimation of activation energies for decomposition reaction of polymer by hydrogen radicals generated using hot-wire catalyzer

Akihiko Kono, Yu Arai, Yousuke Goto, Masashi Yamamoto, Seiji Takahashi, Tadaaki Yamagishi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori, Hideo Horibe

Thin Solid Films 575 17-20 2015年1月30日査読有り

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担当経験のある科目(授業)

所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

理科室で構築したナノテクプラットフォームで実現する半導体デバイスファウンドリ

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2022年4月 - 2025年3月

長岡史郎, 山本雅史, 清水共, JOHNSTON ROBERT, 松田和典, 堀邊英夫
大気圧低温プラズマを用いたポリマーブレンド膜表面へのダブルラフネス構造の形成

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2022年4月 - 2025年3月

山本雅史, 堀邊英夫
水素ラジカルによるポリマー材料の分解・除去における酸素微量添加効果の解明

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 基盤研究(C) 2019年4月 - 2022年3月

山本雅史, 堀邊英夫, 長岡史郎
理科室で構築するナノテクプラットフォーム

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 基盤研究(C) 2016年4月 - 2019年3月

長岡史郎, 堀邊英夫, 下川房男, 山本雅史, 清水共, JOHNSTON ROBERT, 鹿間共一, 鹿間共一
リチウムイオン二次電池電極材料の緩和解析

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2014年4月 - 2017年3月

八尾健, 高井茂臣, 薮塚武史, 岡野寛, 遠藤友樹, 相馬岳, 山本雅史

産業財産権

特許6681061 レジスト剥離方法およびレジスト剥離装置

堀邊英夫, 山本雅史, 鹿間共一
特許第5945757号電気二重層キャパシタ

山本雅史, 飯田大祐, 小松大輔
特開2015-167184 電気化学デバイス用外装および電気二重層キャパシタ

奥野一樹, 真嶋正利, 細江晃久, 山本雅史, 野口卓孝, 倉元政道
特開2015-159229 電気化学デバイス用外装および電気二重層キャパシタ

奥野一樹, 竹山知陽, 真嶋正利, 細江晃久, 山本雅史, 野口卓孝, 倉元政道
特開2015-056481 電気化学デバイス用電極端子およびその製造方法と電気二重層キャパシタおよびその製造方法

奥野一樹, 真嶋正利, 細江晃久, 山本雅史, 野口卓孝
特開2014-220328 蓄電デバイス用電極、蓄電デバイスおよび蓄電デバイス用電極の製造方法

細江晃久, 真嶋正利, 奥野一樹, 小川光靖, 竹山知陽, 野口卓孝, 山本雅史, 倉元政道
特開2014-220327 蓄電デバイス用電極、蓄電デバイスおよび蓄電デバイス用電極の製造方法

細江晃久, 真嶋正利, 奥野一樹, 竹山知陽, 小川光靖, 野口卓孝, 山本雅史, 倉元政道
特開2013-183037 電気二重層キャパシタ

山本雅史, 飯田大祐, 小松大輔
WO2013-073526 蓄電デバイス用電極、蓄電デバイスおよび蓄電デバイス用電極の製造方法

奥野一樹, 細江晃久, 真嶋正利, 中井由弘, 野口卓孝, 小松大輔, 飯田大祐, 山本雅史, 倉元政道
特開2012-227186 塗工電極の作製方法

高田雅之, 山本雅史

山本雅史

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