$^{99}$Mo-$^{99m}$Tcジェネレータ用Mo吸着剤としての塩素フリーチタン系無機高分子の合成
第30回無機高分子研究討論会
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- 開催年月日
- 2011年11月
- 記述言語
- 日本語
- 会議種別
- 開催地
- 京都
- 国・地域
- 日本
JMTR再稼働における「産業利用の拡大」の一環として、$^{99}$Mo-$^{99m}$Tcジェネレータを用いた放射化法((n,$\gamma$)法)による$^{99}$Mo製造技術開発を行っている。これまで、Mo吸着剤としてアルミナが用いられているが、Mo吸着量が小さいために、(n,$\gamma$)法による$^{99}$Mo製造に用いるジェネレータとして不向きであり、Mo吸着量がアルミナよりも100$\sim$200倍大きいZr系無機高分子であるMo吸着剤(PZC)が開発されてきた。本研究では、製造性及びリサイクル性の観点から、塩素を用いない新たなMo吸着材(Ti系無機高分子:PTC)の開発を行った。この結果、Mo吸着量はPTCとほぼ同等の性能を有するとともに、Mo吸着させたPTCからMoを脱着し、さらにこのPTCにMoを再吸着させたMo吸着量は100$\sim$170mg/gであったことから、吸着剤のリサイクルの可能性を明らかにした。