MISC

2003年

汚染物質除去材としてのDNA

高分子
  • 西 則雄
  • ,
  • 山田真路
  • ,
  • 劉 向東

52
3
開始ページ
134
終了ページ
137
記述言語
日本語
掲載種別
DOI
10.1295/kobunshi.52.134
出版者・発行元
The Society of Polymer Science, Japan

紫外線照射法によりヌクレアーゼ耐性でB型構造を保った水不溶性DNAを調製できた。この水不溶性DNAによりダイオキシンなどの環境ホルモン類や有害重金属を選択的に除去できる。また,透析膜内のDNA水溶液によるダイオキシン類希薄溶液の集積・濃縮と有機溶媒による洗浄の繰り返しにより,ダイオキシン類の効率的集積・除去が実現できた。

リンク情報
DOI
https://doi.org/10.1295/kobunshi.52.134
CiNii Articles
http://ci.nii.ac.jp/naid/130001446372
CiNii Books
http://ci.nii.ac.jp/ncid/AN00084926
URL
http://id.ndl.go.jp/bib/6477194
URL
https://jlc.jst.go.jp/DN/JALC/00162939583?from=CiNii
ID情報
  • DOI : 10.1295/kobunshi.52.134
  • ISSN : 0454-1138
  • CiNii Articles ID : 130001446372
  • CiNii Books ID : AN00084926

エクスポート
BibTeX RIS