論文

査読有り筆頭著者

2020年7月7日

Dual crystallization modes of sputter-deposited amorphous SiGe films

Journal of Applied Physics

M. Okugawa
R. Nakamura
H. Numakura
M. Ishimaru
H. Yasuda

巻: 128
号: 1
開始ページ: 015303
終了ページ: 015303
記述言語
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
DOI: 10.1063/5.0010202
出版者・発行元: AIP Publishing

リンク情報

DOI: https://doi.org/10.1063/5.0010202
URL: http://aip.scitation.org/doi/pdf/10.1063/5.0010202

ID情報

DOI : 10.1063/5.0010202
ISSN : 0021-8979
eISSN : 1089-7550

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