共同研究・競争的資金等の研究課題

2015年4月 - 2018年3月

界面エンジニアリングによる二酸化チタン薄膜の表面電子状態制御法の確立

日本学術振興会  科学研究費助成事業 若手研究(B)  若手研究(B)
  • 簑原 誠人

課題番号
15K17470
体系的課題番号
JP15K17470
配分額
(総額)
3,250,000円
(直接経費)
2,500,000円
(間接経費)
750,000円

酸化物半導体における表面電子状態の精密制御は、表面の機能を利用したガスセンサなどの電子デバイス、および触媒の機能を向上させる上で必要不可欠な技術である。本研究では、電荷不連続性の精密制御(界面エンジニアリング)を行った酸化物薄膜の表面電子状態の制御手法を確立することを目的とした。
界面構造を制御したLaFeO3薄膜/SrTiO3基板ヘテロ構造において、界面の終端構造の違いによって、LaFeO3薄膜の電子状態が大きく変化したことを見出した。このことは、界面構造制御による表面電子状態制御ができていることを意味している。

リンク情報
Kaken Url
https://kaken.nii.ac.jp/file/KAKENHI-PROJECT-15K17470/15K17470seika.pdf
KAKEN
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15K17470
ID情報
  • 課題番号 : 15K17470
  • 体系的課題番号 : JP15K17470