ネガ型の特性を持つポリシロキサンをレジスト材料として提案し，直径500nm，高さ600 nmのドットアレイを持つダイヤモンドモールドを作製した。さらに，本研究で開発した室温で高粘性，空気中の水分と反応して徐々に硬化するポリシロキサンを転写材料とした室温硬化インプリントにより，高精度なナノドットマスクパターンを形成し，その試料をECR酸素イオンビーム加工後，ダイヤモンドナノドットアレイを作製した。