論文

査読有り 最終著者 国際共著 国際誌
2021年8月5日

Different Etching Mechanisms of Diamond by Oxygen and Hydrogen Plasma: a Reactive Molecular Dynamics Study

The Journal of Physical Chemistry C
  • Jingxiang Xu
  • ,
  • Kang Lu
  • ,
  • Ding Fan
  • ,
  • Yang Wang
  • ,
  • Shaolin Xu
  • ,
  • Momoji Kubo

125
30
開始ページ
16711
終了ページ
16718
記述言語
英語
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
DOI
10.1021/acs.jpcc.1c03919
出版者・発行元
American Chemical Society (ACS)

リンク情報
DOI
https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.1c03919
URL
https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/acs.jpcc.1c03919
ID情報
  • DOI : 10.1021/acs.jpcc.1c03919
  • ISSN : 1932-7447
  • eISSN : 1932-7455

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