論文

査読有り招待有り筆頭著者責任著者

2018年7月

分子クラスターイオンビームを用いたSIMS分子イオン収率の増加

表面と真空

盛谷浩右

巻: 61
号: 7
開始ページ: 452
終了ページ: 457
記述言語: 日本語
掲載種別

リンク情報

J-GLOBAL: https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201802255513179670

ID情報

ISSN : 2433-5835
J-Global ID : 201802255513179670

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