本研究は，サブナノオーダの構造不均一性を光学的に検出できる偏光測定解析技術を構築することである．機械的な測定誤差を排除するために，光スピンホール効果による反射位置のシフト量を測定量とすることで機械駆動を必要としない偏光測定光学系を構築した．具体的には，サブ10nm前後の金の薄膜を標準試料として用いることで測定光学系の精度検定を行い，さらには，オプティカルフラットの表面粗さをサブナノオーダーで検出した．また，サンプルを走査することにより表面粗さの二次元マッピングを行うことでこれまでに検出が不可能であった研磨痕を明らかにすることができた．なお，波形測定精度の向上のために機械学習も導入した．