2014年4月 - 2017年3月
テラヘルツ周波数領域二重変調型エリプソメータ及び複合偏光解析手法の開発
日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(B) 基盤研究(B)
- 課題番号
- 26289066
- 体系的課題番号
- JP26289066
- 担当区分
- 研究分担者
- 配分額
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- (総額)
- 16,380,000円
- (直接経費)
- 12,600,000円
- (間接経費)
- 3,780,000円
通常の可視・紫外波長領域及び赤外波長領域では不透明で測定が行えない工業材料や生体関連試料の精密な評価を目的として,「二重変調型タンデムロックイン検出方式テラヘルツ周波数領域エリプソメータ」の提案と製作,及び評価を行った。最終的に,当初の目的の装置を完成させ,論文としてまとめた。さらに,金属面上の塗装膜の膜厚測定が行えることを実証し,二層膜の測定の可能性を解説論文としてまとめた。また,テラヘルツ周波数領域での幾何学的位相の直接測定の可能性を示唆した後,可視光領域ではあるが,幾何学的位相の非線形挙動を用いた旋光分散の新規な測定手法を提案した。
- ID情報
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- 課題番号 : 26289066
- 体系的課題番号 : JP26289066