鈴木健太 (Kenta Suzuki) - マイポータル

基本情報

所属: 国立研究開発法人産業技術総合研究所先端半導体研究センター

ORCID iD: https://orcid.org/0000-0003-4354-908X
J-GLOBAL ID: 202101001858792606
Researcher ID: O-9528-2016
researchmap会員ID: R000030871

低欠陥・超高速ナノインプリント技術、アライメント技術、微細配線形成技術などの開発を行っており、これまで、10nmレベルの超解像パターン、1µmピッチのマイクロレンズアレイ、1µm幅のMEMS実装配線、HP24nm以下のバックエンド配線(BEOL)、その他、さまざまな光学パターンを実証しています。

研究キーワード

光ナノインプリント（気泡欠陥除去、アライメント）、微細配線、光実装

研究分野

受賞

論文

Breakthrough in 19 nm half-pitch W damascene interconnects using nanoimprint lithography and atomic-scale processing

Kenta Suzuki, Tetsuya Ueda, Yuji KASASHIMA, Wataru Mizubayashi, Naoya Okada, Hiroyuki Ota, Masanaga FUKASAWA, Yoshihiro Hayashi, Masaki Ishida, Tomomi Funayoshi …

Japanese Journal of Applied Physics 2026年4月7日
1X nm half-pitch pattern transfer using a spin-on glass and amorphous carbon hard mask for nanoimprint lithography

Kenta Suzuki, Ryosuke Hamamoto, Yuji KASASHIMA, Tetsuya Ueda, Wataru Mizubayashi, Masanaga FUKASAWA, Yoshihiro Hayashi, Masaki Ishida, Tomomi Funayoshi, Hiromi Hiura …

Japanese Journal of Applied Physics 2026年1月15日
Tolerable patterning in nanoimprint lithography by one-pass breakthrough etching of residual layer and spin-on-glass

Kenta Suzuki, Tetsuya Ueda, Hiroshi Hiroshima, Masanaga FUKASAWA, Yuji KASASHIMA, Yoshihiro Hayashi, Masaki Ishida, Tomomi Funayoshi, Hiromi Hiura, Masayuki Kagawa …

Japanese Journal of Applied Physics 2025年1月22日
Complex L/S and Via Patterning for Damascene Interconnects Using Nanoimprint Lithography

Kenta Suzuki, Tetsuya Ueda, Kazuyuki Matsumaro, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiro Hayashi, Masaki Ishida, Tomomi Funayoshi, Hiromi Hiura, Masayuki Kagawa, Noriyasu Hasegawa …

NOVEL PATTERNING TECHNOLOGIES 2025 13427 2025年
Electrical evaluation of copper damascene interconnects based on nanoimprint lithography compared with ArF immersion lithography for back-end-of-line process

Kenta Suzuki, Sung-Won Youn, Tetsuya Ueda, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiro Hayashi, Masaki Ishida, Tomomi Funayoshi, Hiromi Hiura, Noriyasu Hasegawa, Kiyohito Yamamoto

Japanese Journal of Applied Physics 2024年3月1日
Development of electron beam lithography technique for large area nano structural color

Sung-Won Youn, Kenta Suzuki, Hiroshi Hiroshima, Shunichi Toda, Satoshi Nagai

Japanese Journal of Applied Physics 2024年3月1日
Open/short-TEG evaluation of 24 nm-half-pitch-W damascene interconnects based on nanoimprint lithography

Kenta Suzuki, Tetsuya Ueda, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiro Hayashi, Masaki Ishida, Tomomi Funayoshi, Hiromi Hiura, Noriyasu Hasegawa, Kiyohito Yamamoto

NOVEL PATTERNING TECHNOLOGIES 2024 12956 2024年
Feature-size Control by Pattern Transfer Etching in Nanoimprint Lithography for Half-pitch 24 nm Damascene Interconnect

Kenta Suzuki, Tetsuya Ueda, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiro Hayashi, Masaki Ishida, Tomomi Funayoshi, Hiromi Hiura, Noriyasu Hasegawa, Kiyohito Yamamoto

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 37(5) 449-456 2024年
Application of Self-aligned Quadruple Patterning to Fabrication of Nanoimprint Mold with Sub-12-nm Half-pitch

Kenta Suzuki, Tetsuya Ueda, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiro Hayashi

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 37(5) 475-480 2024年
Micromirror fabrication for co-packaged optics using 3D nanoimprint technology

Fumi Nakamura, Kenta Suzuki, Akihiro Noriki, Takeru Amano

Journal of Vacuum Science & Technology B 2022年12月
UV支援熱インプリント法による可溶性ブロック共重合体ポリイミドにおける高アスペクト比マイクロパターンの作製【JST・京大機械翻訳】

Youn Sung-Won, Suzuki Kenta, Takagi Hideki, Hiroshima Hiroshi, Kinoshita Yoshinori, Hayashi Katsuhiro

Journal of Mechanical Science and Technology 33(8) 3755-3760 2019年8月査読有り
ナノインプリント技術の配線応用に向けたプロセスとモールド設計

尹成圓, 廣島洋, 鈴木健太

エレクトロニクス実装学会誌 22(2) 158-163 2019年
Solubility Property of Condensable Gases of Trans-1-Chloro-3,3,3-Trifluoropropene and Trans-1,3,3,3-Tetrafluoropropene in UV Nanoimprint

Kenta Suzuki, Sung-Won Youn, Hiroshi Hiroshima

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 32(1) 123-130 2019年査読有り筆頭著者責任著者
Pt Nanogap Electrode Fabrication by Two-Layer Lift-Off UV-NIL and Nanowire Breakdown

Kyouhei Hashiguchi, Kenta Suzuki, Hiroshi Hiroshima, Yasuhisa Naitoh, Hiroshi Suga

IEEE Transactions on Nanotechnology 17(6) 1094-1097 2018年11月査読有り責任著者
Evaluation of Nanoimprinting Multilayer Lift-off Process using Spin-on-glass for Nanogap Electrode Array

Kyohei Hashiguchi, Kenta Suzuki, Hiroshi Hiroshima, Yasuhisa Naitoh, Hiroshi Suga

Journal of Photopolymer Science and Technology 31(2) 277-282 2018年6月25日査読有り責任著者
ナノインプリントリソグラフィーにおける残留層厚均一化のためのチップスケールパターン修正法

YOUN Sung-Won, SUZUKI Kenta, HIROSHIMA Hiroshi

Japanese Journal of Applied Physics 57(6S1) 06HG03-06HG03 2018年6月1日査読有り
Filling Behavior and Mold Release Force in UV Nanoimprinting Using PDMS Mold in Different Atmosphere

Kenta Suzuki, Sung-Won Youn, Hiroshi Hiroshima

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 31(2) 295-300 2018年査読有り筆頭著者責任著者
ナノインプリントリソグラフィー用の容量等化鋳型の自動設計方法の基礎的検証

YOUN Sung-Won, SUZUKI Kenta, HIROSHIMA Hiroshi

Journal of Nanoscience and Nanotechnology 17(11) 8475-8479 2017年11月査読有り
トランス-1,3,3,3-テトラフルオロプロペン凝縮性ガスを用いた紫外線ナノインプリントによる低ラインエッジ粗さの気泡の無いパターニング

Suzuki Kenta, Youn Sung-Won, Hiroshima Hiroshi

Applied Physics Letters 109(14) 143102-143102 2016年10月3日査読有り筆頭著者責任著者
Bubble-free high-speed UV nanoimprint lithography using condensable gas with very low global warming potential

Kenta Suzuki, Sung-Won Youn, Hiroshi Hiroshima

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55(7) 2016年7月査読有り筆頭著者

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MISC

ナノインプリントリソグラフィを用いた微細ローカル配線形成技術

鈴木健太, 上田哲也, 笠嶋悠司, 深沢正永, 廣島洋, 林喜宏, 石田真幸, 舩吉智美, 日浦広実, 香川正行 …

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 72nd 2025年
ナノインプリントリソグラフィによるHP19nm L/Sパターンのハードマスクエッチングの評価

鈴木健太, 上田哲也, 笠嶋悠司, 濱本亮輔, 深沢正永, 水林亘, 林喜宏, 石田真幸, 舩吉智美, 日浦広実 …

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 86th 2025年
ナノインプリントリソグラフィによるデュアルダマシン(DD)配線のパターニング形状評価

濱本亮輔, 鈴木健太, 上田哲也, 林喜宏, 水林亘, 石田真幸, 日浦広実, 香川正行, 日下敦之, 小楠誠 …

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 86th 2025年
光ナノインプリント装置を用いた光電コパッケージ用光配線試作

中村文, 鈴木健太, 乗木暁博, 須田悟史, 黒須隆行, 天野建

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2024 2024年
大面積偏向を有する超高速電子ビーム加工装置(UHSEB)の開発と応用

永井佐利, 渡部工, 戸田駿一, 伊藤高臣, 尹成圓, 鈴木健太, 廣島洋

精密工学会大会学術講演会講演論文集(CD-ROM) 2022 2022年
光ナノインプリントを用いた光電コパッケージ用マイクロミラーの作製

中村文, 鈴木健太, 乗木暁博, 天野建

マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 32 183-186 2022年
混合凝縮性ガス下での光ナノインプリントにおける光硬化性樹脂の微小液滴の充填評価

大川達也, 鈴木健太, 今井郷充

精密工学会学術講演会講演論文集 2021A 363-364 2021年9月8日
超高速電子ビーム描画装置及び高精度ナノインプリント技術の開発

尹成圓, 廣島洋, 新関嵩, 永井佐利, 伊藤高臣, 岡林徹行, 鈴木健太

精密工学会学術講演会講演論文集 2019A 214-215 2019年8月20日
ウェハレベルナノインプリント技術の開発と実装技術への応用に関する研究

YOUN Sung-Won, SUZUKI Kenta, HIROSHIMA Hiroshi

バイオメカニクス研究センター&エレクトロニクス実装学会九州支部合同研究会 7th (CD-ROM) 2019年
凝縮性ガス下でのナノインプリントにおけるモールド全域の樹脂の充填観察

鈴木健太, 尹成園

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2019 213-213 2019年
光ナノインプリント樹脂への凝縮性ガスの溶解性の評価

鈴木健太, 尹成圓, 廣島洋

エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM) 33rd 13A4-05 2019年
スパッタ/反応性イオンエッチングによるマイクロ流路底面へのナノ構造形成法

鈴木聡, 鈴木聡, 鈴木健太, 廣島洋, 菅洋志

日本機械学会関東支部総会・講演会講演論文集(CD-ROM) 25th 2019年
UVナノインプリント用石英モールドの加工における寸法制御性の評価

橋口恭平, 鈴木健太, 廣島洋, 菅洋志

エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集 32 162-163 2018年
UVナノインプリントによる球面ミラー付きポリマー光導波路の試作

鈴木健太, 天野建, 乗木暁博

Symposium on Microjoining and Assembly Technology in Electronics 24th 2018年
PDMSレプリカモールドを使用したUVナノインプリントのパターン欠陥と離型力の評価

鈴木健太, 尹成圓, 廣島洋

エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM) 32nd 160-161 2018年
寸法制御性の良いUVナノインプリント用石英モールドの加工法の検討

橋口恭平, 橋口恭平, 鈴木健太, 廣島洋, 菅洋志

エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM) 32nd 2018年
配線基板作製に向けたナノインプリントモールドパターンの補正およびその作製工程

尹成圓, 鈴木健太, 廣島洋

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2018 823-824 2018年
マイクロ流路内への撥水性ナノ構造の作製

鈴木聡, 鈴木健太, 廣島洋, 菅洋志

精密工学会大会学術講演会講演論文集 2018 827-827 2018年
2層リフトオフUV-NILとナノワイヤ破壊プロセスにより作製したPtナノギャップ電極【JST・京大機械翻訳】

Hashiguchi Kyouhei, Suzuki Kenta, Hiroshima Hiroshi, Suga Hiroshi

IEEE Conference Proceedings 2017(NMDC) 2017年
ナノインプリント法とはく離技術

鈴木健太

機械の研究 69(3) 212-218 2017年

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所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

10nm未満のモールド作製とナノインプリントパターンの引きちぎれ防止技術の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2025年4月 - 2028年3月

鈴木健太
ナノ成形構造体と自己組織化成膜技術の融合によるナノ構造体形状制御に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2022年4月 - 2025年3月

栗原一真, 中野美紀, 穂苅遼平, 鈴木健太
積層化金属ナノ構造を利用した極薄光アイソレータの研究開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2021年4月 - 2024年3月

穂苅遼平, 鈴木健太, 栗原一真
混合凝縮性ガスと微小液滴を用いた超高速光ナノインプリントに関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2019年4月 - 2022年3月

鈴木健太, Youn SungーWon
混合凝縮性ガスを導入する光ナノインプリント技術の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(B) 若手研究(B) 2017年4月 - 2019年3月

鈴木健太, 橋口恭平, 菅洋志, 尹成圓, 廣島洋
マイクロデバイスの高気密封止のための金属の常温接合に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 基盤研究(C) 2016年4月 - 2019年3月

倉島優一, 高木秀樹, 鈴木健太
ナノインプリント領域全域での高速充填と均一残膜を実現するモールド設計技術の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 基盤研究(C) 2016年4月 - 2019年3月

Youn SungーWon, 鈴木健太, 廣島洋

主要な産業財産権

特許第6901712号包装材

栗原一真, 高田尚樹, 鈴木健太, 小倉佑介

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鈴木健太

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所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

主要な産業財産権

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