Patent 酸化グラフェン被覆酸化マグネシウム粒子及びその製造方法 タテホ化学工業株式会社, 国立大学法人 岡山大学 齋藤 彰範, 仁科 勇太 Application no. 特願2019-222727 Date applied Dec 10, 2019 Announcement no. 特開2021-091570 Date announced Jun 17, 2021 Link information J-GLOBALhttps://jglobal.jst.go.jp/en/detail?JGLOBAL_ID=202103000250534613 ID information J-Global ID : 202103000250534613