100 MeV以上の高速重イオンをセラミックスに照射すると、表面に10 nm程度の隆起物(ナノヒロック) が形成されることが知られている。表面ナノ構造(ナノヒロック)の形成メカニズムの解明に向けて、様々なセラミックスについて、照射した微小試料の透過型電子顕微鏡観察を行った。ナノヒロックの内部が非結晶質である材料群（Y3Fe5O12, ZrSiO4等）の他に、内部が結晶質である材料群（CeO2,CaF2等）が存在することが判明した。セラミックスは照射すると一旦融けて結晶構造が崩れることはすでに分かっていたが、後者の材料のみ、溶けた後に急速に結晶構造を復元できる能力を有していることが分かった。