産業財産権

特許権

放射性同位元素の製造方法及び装置

  • 永井 泰樹
  • ,
  • 大島 真澄
  • ,
  • 初川 雄一
  • ,
  • 原田 秀郎
  • ,
  • 金 政浩
  • ,
  • 岩本 修
  • ,
  • 岩本 信之
  • ,
  • 瀬川 麻里子
  • ,
  • 今野 力
  • ,
  • 落合 謙太郎

出願番号
特願2010-008607
出願日
2010年1月18日
公開番号
特開2010-223943
公開日
2010年10月7日

リンク情報
J-GLOBAL
https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201003080718425050
URL
http://jglobal.jst.go.jp/public/201003080718425050
ID情報
  • J-Global ID : 201003080718425050