産業財産権

特許権

リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法

  • 安田 敦
  • ,
  • 押切 友也

出願番号
特願2011-138301
出願日
2011年6月22日
公開番号
特開2013-006888
公開日
2013年1月10日
特許番号/登録番号
特許第5821317号
登録日
2015年10月16日
発行日

リンク情報
J-GLOBAL
https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201303090230047429
ID情報
  • J-Global ID : 201303090230047429