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大島 孝仁
オオシマ タカヨシ (Takayoshi Oshima)
更新日: 01/31
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経歴
学歴
論文
講演・口頭発表等
MISC
受賞
所属学協会
産業財産権
担当経験のある科目(授業)
産業財産権
22
表示件数
20件
20件
50件
100件
特開2021-118266 半導体装置
大島 孝仁
特開2021-080127 剥離方法および結晶性酸化物膜の製造方法
鳥山 達矢, 大島 孝仁
特許6679478 アバランシェフォトダイオード
佐々木 公平, 大島 孝仁
特願2020-010927 結晶膜の製造方法
大島孝仁
特願2020-010926 半導体装置の製造方法
大島孝仁
特願2020-010925 半導体装置
大島孝仁
特願2020-010924 半導体装置
大島孝仁
特願2019-179862 積層構造体および半導体装置
大島孝仁, 鳥山達矢
特願2019-179861 積層構造体および半導体装置
大島孝仁, 鳥山達矢
特開2019-151922 積層体および半導体装置
大島 孝仁, 四戸 孝, ▲高▼橋 勲
特開2018-032662 ダイヤモンドコンタクト構造とこれを用いた電子素子
白石 賢二, 嘉数 誠, 宮崎 誠一, 大石 敏之, 大島 孝仁
特開2016-050248 深紫外発光材料
須山 敏尚, 藤井 俊輔, 大友 明, 大島 孝仁, 向井 章
特開2016-050249 深紫外発光材料
須山 敏尚, 藤井 俊輔, 大友 明, 大島 孝仁, 向井 章
特開2014-205899 電気化学反応装置
大友 明, 大島 孝仁, 佐々木 公平
WO2013-035841 Ga2O3系HEMT
佐々木 公平, 東脇 正高, 藤田 静雄, 大友 明, 大島 孝仁
特許第5103683号 酸化ガリウム基板用電極の製造方法及びそれにより製造される酸化ガリウム基板用電極
大平 重男, 鈴木 悟仁, 新井 直樹, 大島 孝仁, 藤田 静雄
特許6333004 酸化物半導体膜及びその製造方法
大友 明, 大島 孝仁, 入野 将昂
特開2009-302257 酸化ガリウム単結晶基板用オーミック電極及びその製造方法
大平 重男, 新井 直樹, 藤田 静雄, 大島 孝仁
特開2009-302259 酸化ガリウム単結晶基板用ショットキー電極及びその製造方法
大平 重男, 新井 直樹, 藤田 静雄, 大島 孝仁
特開2009-130012 紫外線用フォトディテクタ、およびその製造方法
大平 重男, 新井 直樹, 大島 孝仁, 藤田 静雄
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