講演・口頭発表等

国際会議
2022年10月24日

Self-aligned photolithography using backside exposure through metal patterns on β-Ga2O3 substrates

4th International Workshop on Gallium Oxide and Related Materials
  • Takayoshi Oshima

開催年月日
2022年10月23日 - 2022年10月27日
記述言語
英語
会議種別
ポスター発表
開催地
Nagano
国・地域
日本