伊藤智子 (Ito Tomoko) - マイポータル

基本情報

J-GLOBAL ID: 202001013117524710
researchmap会員ID: R000001945

外部リンク: http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/

研究分野

エネルギー / プラズマ応用科学 /

経歴

2020年4月 - 現在

大阪大学工学研究科附属アトミックデザイン研究センター助教
2016年4月 - 2020年3月

大阪大学工学研究科附属アトミックデザイン研究センター特任研究員（常勤）
2014年4月 - 2016年3月

大阪大学工学研究科附属アトミックデザイン研究センター特任研究員

学歴

2010年4月 - 2013年3月

大阪大学大学院工学研究科マテリアル生産科学専攻生産科学コース博士後期課程
2008年4月 - 2010年3月

大阪大学大学院工学研究科マテリアル生産科学専攻生産科学コース博士前期課程
2004年4月 - 2008年3月

奈良女子大学理学部物理科学科（その他）

受賞

2014年5月

第62 回質量分析総合討論会ベストプレゼンテーション賞優秀賞日本質量分析学会

伊藤智子, 関本奏子, 浜口智志
2012年9月

第11回プラズマエレクトロニクス賞応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Masanaga Fukasawa, Tetsuya Tatsumi, Satoshi Hamaguchi
2010年11月

Young Researcher Award (The 32nd International Symposium on Dry Process) 第32回ドライプロセス国際シンポジウム組織委員会

Tomoko Ito

論文

Formation and desorption of nickel hexafluoroacetylacetonate Ni(hfac)2 on a nickel oxide surface in atomic layer etching processes

Abdulrahman H. Basher, Marjan Krstić, Karin Fink, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Wolfgang Wenzel, Satoshi Hamaguchi

Journal of Vacuum Science & Technology A 38(5) 052602-052602 2020年9月査読有り
Experimental and numerical analysis of the effects of ion bombardment in silicon oxide (SiO2) plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) processes

Hu Li, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Munehito Kagaya, Tsuyoshi Moriya, Masaaki Matsukuma, Satoshi Hamaguchi

Japanese Journal of Applied Physics 59(SJ) SJJA01-SJJA01 2020年6月1日査読有り
Stability of hexafluoroacetylacetone molecules on metallic and oxidized nickel surfaces in atomic-layer-etching processes

Abdulrahman H. Basher, Marjan Krstić, Takae Takeuchi, Michiro Isobe, Tomoko Ito, Masato Kiuchi, Kazuhiro Karahashi, Wolfgang Wenzel, Satoshi Hamaguchi

Journal of Vacuum Science & Technology A 38(2) 022610-022610 2020年3月査読有り
XPS Study of Hexafluoroacetylacetone(hHfac) Adsorbed on Cobalt Surfaces for Atomic layer etching (ALE)

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi

Proceedings of 32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference 29P-3-3 2019年11月査読有り筆頭著者
アセチルアセトンとニッケル表面および酸化ニッケル表面との表面反応機構の研究

中村花菜, Basher Abdulrahman, 伊藤智子, 唐橋一浩, 浜口智志, 竹内孝江

表面科学学術講演会要旨集 2018 122-122 2018年査読有り
Molecular dynamics simulations of atomic-layer etching (ALE) of SiO2

Yuki Okada, Michiro Isobe, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi

Proceedings of the 39th International Symposium on Dry Process (DPS2017) 47-48 2017年11月査読有り
Surface reactions of metal surfaces with adsorbed organic compounds by Ar+ ion irradiation,

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi

Proceedings of the 39th International Symposium on Dry Process (DPS2017) 45-46 2017年11月査読有り筆頭著者
Etching yields and surface reactions of amorphous carbon by fluorocarbon ion irradiation

Karahashi Kazuhiro, Li Hu, Yamada Kentaro, Ito Tomoko, Numazawa Satoshi, Machida Ken, Ishikawa Kiyoshi, Hamaguchi Satoshi

Jpn. J. Appl. Phys. 56(6S2) 06HB09-06HB09 2017年6月1日査読有り
Mass spectrometry analyses of ions generated by atmospheric-pressure plasma jets in ambient air

Tomoko Ito, Kensaku Gotou, Kanako Sekimoto, Satoshi Hamaguchi

Plasma Medicine 5(2-4) 283-298 2015年12月査読有り筆頭著者
Mass spectrometry analyses of ions generated by atmospheric-pressure plasma jets in ambient air

Tomoko Ito, Kensaku Gotoh, Kanako Sekimoto, Satoshi Hamaguchi

Plasma Medicine 5(2-4) 283-298 2015年査読有り
Characterization of polymer layer formation during SiO

Miyake Keita, Ito Tomoko, Isobe Michiro, Karahashi Kazuhiro, Fukasawa Masanaga, Nagahata Kazunori, Tatsumi Tetsuya, Hamaguchi Satoshi

Jpn. J. Appl. Phys. 53(3S2) 03DD02-03DD02 2014年1月1日査読有り
Characteristics of silicon etching by silicon chloride ions

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Song-Yun Kang, Satoshi Hamaguchi

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 31(3) 031301-031301 2013年5月査読有り筆頭著者
Etching reaction of CoFeB by carbon monoxide /methyl alcohol based plasmas

Kazuhiro Karahashi, Tomoko Ito, Satoshi Hamaguchi

Proceedings of International Symposium on Dry Process (DPS) 167-168 2012年11月査読有り
Si Damage Due to Oblique-Angle Ion Impact Relevant for Vertical Gate Etching Processes

Ito Tomoko, Karahashi Kazuhiro, Mizotani Kohei, Isobe Michiro, Kang Song-Yun, Honda Masanobu, Hamaguchi Satoshi

Jpn J Appl Phys 51(8) 08HB01-08HB01 2012年8月20日査読有り筆頭著者
Mechanisms of selective etching for magnetic thin films by reactive plasmas for MRAM applications

183-184 2011年11月査読有り
Si recess of poly-Si gate etching: damage enhanced by ion assisted oxygen diffusion

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Masanaga Fukasawa, Tetsuya Tatsumi and, Satoshi Hamaguchi

187-188 2011年11月査読有り筆頭著者
Etching reactions of Ni and Ta films by CO+, C+,O+ and OH+ ion irradiation

Kazuhiro Karahashi, Tomoko Ito, Satoshi Hamaguchi

11-12 2011年11月査読有り
Hydrogen effects in hydrofluorocarbon plasma etching of silicon nitride: Beam study with CF+, CF2+, CHF2+, and CH2F+ ions

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Masanaga Fukasawa, Tetsuya Tatsumi, Satoshi Hamaguchi

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 29(5) 050601-050601 2011年9月査読有り筆頭著者
Si Recess of Polycrystalline Silicon Gate Etching: Damage Enhanced by Ion Assisted Oxygen Diffusion

Ito Tomoko, Karahashi Kazuhiro, Fukasawa Masanaga, Tatsumi Tetsuya, Hamaguchi Satoshi

Jpn J Appl Phys 50(8) 08KD02-08KD02 2011年8月22日査読有り筆頭著者
Evaluation of Si etching yields by Cl+Br+and HBr+ion irradiation

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Song-Yun Kang, Satoshi Hamaguchi

Journal of Physics: Conference Series 232 012021-012021 2010年6月1日査読有り筆頭著者

講演・口頭発表等

Nitridation and chlorine removal effects of nitrogen ion irradiation during plasma-enhanced Atomic Layer Deposition (PE-ALD) of silicon nitrid

Abdullah Y. Jaber, Erin Joy, C. Tinacba, Nicolas A. Mauchamp, Michiro Isobe, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Masaaki Matsukuma, Munehito Kagaya, Ayuta Suzuki, Kazuyoshi Matsuzaki, Satoshi Hamaguchi

The 30th International Toki Conference on Plasma and Fusion Research 2021年11月17日
Mechanisms of Thermal Atomic Layer Etching (ALE) of Metal by β-Diketones

A. H. Basher, I. Hamada, M. Krstić, T. Ito, K. Karahashi, W. Wenzel, S. Hamaguchi

American Vacuum Society (AVS) 67th Virtual Symposium 2021年10月
Surface reactions of fluorinated Y2O3 by H+ and O+ ion irradiation

Hojun Kang, Tomoko Ito, Junghwan Um, Hikaru Kokura, Taekyun Kang, Sung-Il Cho, Hyunjung Park, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi

the 68th JSAP Spring Meeting 2020年9月11日
XPS Study of Hexafluoroacetylacetone(hHfac) Adsorbed on Cobalt Surfaces for Atomic layer etching (ALE)

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi

32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2019年11月29日
Analyses of Hexafluoroacetylacetone (Hfac) Adsorbed on Transition Metal Surfaces

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi

AVS 18th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019) and the 5th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2019) 2019年7月23日招待有り
原子層エッチングプロセスにおける表面反応解析

伊藤智子, 唐橋一浩, 浜口智志

The 4th Atomic Layer Process (ALP) Workshop 2019年6月19日招待有り
ヘキサフルオロアセチルアセトンによる遷移金属(Ni, Co)におけるサーマルエッチング反応解析

伊藤智子, 唐橋一浩, 浜口智志

第66回応用物理学会春季学術講演会 2019年3月
Atomic-Layer Etching (ALE) of Nickel or Nickel Oxide Films by Hexafluoroacetylacetone (HFAC) Molecules

Abdulrahman Basher, Michiro Isobe, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Masato Kiuchi, Takae Takeuchi, Satoshi Hamaguchi

AVS 65th International Symposium & Exhibition 2018年10月25日
Mechanisms for Atomic Layer Etching of Metal Films by the Formation of Beta-diketonate Metal Complexes

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi

AVS 65th International Symposium & Exhibition 2018年10月25日
Effects of Light Ion Beam Irradiation in Plasma Etching Processes

Kazuhiro Karahashi, Tomoko Ito, Hu Li, Michiro Isobe, Kohei Mizotani, Shunpei Shigeno, Masanaga Fukasawa, Akiko Hirata, Tetsuya Tatsumi, Satoshi Hamaguchi

AVS 65th International Symposium & Exhibition 2018年10月23日
金属原子層エッチングプロセスにおける錯体形成表面反応解析

伊藤智子, 唐橋一浩, 浜口智志

第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018年9月20日
Molecular dynamics simulation of SiO2 atomic-layer etching (ALE) by fluorocarbon and argon plasmas

Yuki Okada, Michiro Isobe, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi

AVS 18th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2018) and the 5th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2018) 2018年7月30日
Etching Reactions of Halogenated Layers Induced by Irradiation of Low-energy Ions and Gas-clusters

Kazuhiro Karahashi, Tomoko Ito, Satoshi Hamaguchi

AVS 18th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2018) and the 5th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2018) 2018年7月30日
Reactions of Hexafluoroacetylacetone (hfac) and Metal Surfaces under Low-energy Ion Irradiation

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi

AVS 18th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2018) and the 5th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2018) 2018年7月30日
医療におけるプラズマプロセスの開発

伊藤智子

「量子ビームによるナノ構造形成とその医療・バイオ応用技術」調査専門委員会第5回委員会 2018年6月11日招待有り
ヘキサフルオロアセチルアセトン吸着表面金属（Ni.Cu)におけるエッチング反応

伊藤智子, 唐橋一浩, 浜口智志

第65回応用物理学会春季学術講演会 2018年3月19日
Amino Group Surface Modification of Cell Culture Polystyrene Dishes by an Inverter Plasma Process

Satoshi Sugimoto, Tomoko Ito, Kai Kubota, Kazuma Nishiyama, Satoshi Hamaguchi

2017年12月
XPS Analysis of Adsorbed Organic Compounds on Magnetic Materials Surfaces

Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi

2017年12月
Molecular Dynamics Simulation of Ni Etching by CO Plasmas

Akito Kumamoto, Nicolas A. Mauchamp, Michiro Isobe, Kohei Mizotani, Hu Li, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, S. Hamaguchi

AVS 63rd International Symposium & Exhibition 2017年11月6日
Plasma-based Functionalization of Polystyrene Surfaces of Cell Culture Plates

Kazuma Nishiyama, Tomoko Ito, Satoshi Sugimoto, Kensaku Gotoh, Michiro Isobe, Mina Okamoto, Akira Myoui, Hideki Yoshikawa, Satoshi Hamaguchi

AVS 63rd International Symposium & Exhibition 2017年11月6日

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産業財産権

US2021/0290827 A1 Artificial bone and manufacturing method of artificial bone

Satoshi Hamaguchi, Tomoko Deguchi, Satoshi Sugimoto, Takashi Kaito, Hideki Yoshikawa, Chieko Asamori
2014-179899 放射性プルーム監視システムおよび放射性物質検出装置

浜口智志, 出口智子, 竹内正人, タム・アンディ, 内田清志, 加藤万寿夫, 隅谷典久

伊藤智子

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