論文

査読有り 筆頭著者
2011年11月

Si recess of poly-Si gate etching: damage enhanced by ion assisted oxygen diffusion

  • Tomoko Ito
  • ,
  • Kazuhiro Karahashi
  • ,
  • Masanaga Fukasawa
  • ,
  • Tetsuya Tatsumi and
  • ,
  • Satoshi Hamaguchi

開始ページ
187
終了ページ
188
記述言語
英語
掲載種別
研究論文(国際会議プロシーディングス)

エクスポート
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