査読有り 筆頭著者 2011年11月 Si recess of poly-Si gate etching: damage enhanced by ion assisted oxygen diffusion Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Masanaga Fukasawa, Tetsuya Tatsumi and, Satoshi Hamaguchi 開始ページ 187 終了ページ 188 記述言語 英語 掲載種別 研究論文(国際会議プロシーディングス) エクスポート BibTeX RIS