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八戸 啓
satoru hachinohe
更新日: 2022/08/08
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研究分野
MISC
産業財産権
基本情報
J-GLOBAL ID
201601019506157168
researchmap会員ID
B000259053
研究分野
1
ナノテク・材料 / 無機材料、物性 /
MISC
3
単結晶シリコンのパルス通電下における圧縮変形挙動
森下浩平, 島洋輔, 安田秀幸, 八戸啓
日本金属学会講演概要(CD-ROM) 158th ROMBUNNO.123 2016年3月9日
テラヘルツから赤外線領域での透過光学部品―金属メッシュフィルターとGeとSiプレス成型レンズ―
藤井高志, 八戸啓
日本赤外線学会誌 23(1) 14-23 2013年6月28日
放電プラズマ焼結装置におけるバルク単結晶の成型現象
酒井道, 八戸啓, 森下浩平, 藤井高志, 中嶋一雄, 三浦清貴, 平尾一之
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 73rd ROMBUNNO.13A-J-1 2012年8月27日
産業財産権
10
特許第5824930号 半導体結晶体の加工方法
藤井 高志, 八戸 啓
特許第5751386号 ガラス製品の製造方法およびガラス製品製造装置
八戸 啓
特開2013-214682 加工装置
八戸 啓, 佐藤 智宏
特許第5382382号 半導体結晶体の加工方法
堀内 秀哉, 八戸 啓, 越野 潤一
特開2013-026400 半導体結晶体の加工方法
藤井 高志, 八戸 啓
特開2013-025037 半導体結晶体の加工方法
藤井 高志, 八戸 啓
特許第5019143号 音響的トランスデューサユニット
八戸 啓, 春田 一政, 小口 貴弘
WO2011-089971 半導体結晶体の加工方法、および半導体結晶体の加工装置
堀内 秀哉, 八戸 啓, 越野 潤一
特開2010-258720 音響的トランスデューサユニット
春田 一政, 八戸 啓, 小口 貴弘
WO2010-095596 音響的トランスデューサユニット
八戸 啓, 春田 一政, 小口 貴弘
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