2018年7月
Study on the behavior of the photoelectrons with lower energies in the ultra thin film of silicon oxide
Photon Factory Activity Report 2017
- 巻
- 35
- 号
- 開始ページ
- 202
- 終了ページ
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 機関テクニカルレポート，技術報告書，プレプリント等
- 出版者・発行元
- 高エネルギー加速器研究機構
- リンク情報