1998年11月 炭素正イオン,珪素負イオン同時照射によるSiC薄膜の形成 粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム 坪内信輝, 茶谷原昭義, 木野村淳, HECK C, 堀野裕治 記述言語 日本語 会議種別
