黒岩 紘一

J-GLOBALへ         更新日: 09/07/10 00:00
 
アバター
研究者氏名
黒岩 紘一
 
クロイワ コウイチ
URL
http://www.tuat.ac.jp/~klab/
所属
旧所属 東京農工大学 大学院共生科学技術研究院 先端電気電子部門/大学院工学府 電気電子工学専攻/工学部 電気電子工学科
職名
教授
学位
工学博士(東京大学), 工学修士(東京大学)

研究キーワード

 
 

研究分野

 
 

経歴

 
1972年
 - 
1984年
:日本電信電話公社電気通信研究所研究員
 
1984年
 - 
1993年
:東京農工大学助教授工学部
 
1988年
   
 
-:東京農工大学大学院工学研究科電子情報工学専攻 博士後期課程助教授
 
1992年
 - 
1992年
:千葉大学講師工学部(併任)
 
1993年
   
 
-:東京農工大学教授工学部
 

学歴

 
 
 - 
1972年
東京大学 工学系研究科 
 
 
 - 
1969年
東京大学 工学系研究科 
 
 
 - 
1967年
東京大学 工学部 電子工学科
 

Misc

 
Y.Nagasato, Y.Iwazaki, M.Hasumi, T.Ueno and K.Kuroiwa
Jpn.J.Appl.Phys.   47(1) 31-34   2008年
Y.Nagasato, Y.Iwazaki, M.Hasumi, T.Ueno and K.Kuroiwa
Electrochemical Society Transactions   11(4) 25-33   2007年
Y.Nagasato, T.Aya, Y.Iwazaki, M.Hasumi, T.Ueno and K.Kuroiwa
Jpn.J.Appl.Phys.   44(1A) 5-7   2005年
共著者:Junji SENZAKI, Osamu MITSUNAGA, Takahito UCHIDA, Tomo UENO, Koichi KUROIWA
Jpn.J.Appl.Phys.   35(8) 4195-4198   1996年
共著者:Hiroyuki KOYAMA, Satoshi TANIMOTO, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI
Jpn.J.Appl.Phys.   33(11) 6291-6298   1994年

書籍等出版物

 
半導体用語辞典
日刊工業新聞社   2002年   
半導体大事典
工業調査会   1999年   
半導体用語大辞典
日刊工業新聞社   1999年   
光励起プロセスハンドブック
サイエンスフォーラム   1987年   
半導体デバイスの物理(1)
コロナ社   1974年   

講演・口頭発表等

 
ECRプラズマ窒化によるHfOxNy薄膜の作製および評価(1)
第69回応用物理学会学術講演会   2008年   
ECRプラズマ窒化によるHfOxNy薄膜の作製と評価(2)
第69回応用物理学会学術講演会   2008年   
ECRプラズマ窒化法によるAlN/Ge構造の作製と評価
第69回応用物理学会学術講演会   2008年   
GeO2/Ge構造における界面特性のプロセス依存性の検討
第69回応用物理学会学術講演会   2008年   
Al2O3/Si構造の成膜プロセスの違いによるバンドシフトの変遷
第69回応用物理学会学術講演会   2008年   

Works

 
強誘電体薄膜形成とその応用の研究
光CVD法による薄膜析出の研究
芸術活動   
半導体と絶縁膜の界面特性およびその評価法に関する研究
芸術活動   

競争的資金等の研究課題

 
高誘電率絶縁膜形成に関する研究
研究期間: 2001年   
強誘電体薄膜の形成と不揮発性メモリへの応用
研究期間: 1993年   
新メモリ-デバイスの特性シミュレ-ション
研究期間: 1994年   
強誘電体薄膜形成とその応用に関する研究