黒岩紘一 (Koichi Kuroiwa) - マイポータル

基本情報

所属: 旧所属東京農工大学大学院共生科学技術研究院先端電気電子部門／大学院工学府電気電子工学専攻／工学部電気電子工学科教授

学位: 工学博士(東京大学)
工学修士(東京大学)

J-GLOBAL ID: 200901025129513722
researchmap会員ID: 1000017051

外部リンク: http://www.tuat.ac.jp/~klab/

研究キーワード

研究分野

経歴

2001年

-:東京農工大学大学院工学研究科電気電子工学専攻博士前期課程教授
1984年 - 1993年

:東京農工大学助教授工学部
1993年

-:東京農工大学教授工学部
1992年 - 1992年

:千葉大学講師工学部（併任）
1988年

-:東京農工大学大学院工学研究科電子情報工学専攻博士後期課程助教授
1972年 - 1984年

:日本電信電話公社電気通信研究所研究員

学歴

MISC

Thermal stability of HfO2 films fabricated by metal organic chemical vapor deposition

Yoshitaka Nagasato, Yoshitaka Iwazaki, Masahiko Hasumi, Tomo Ueno, Koichi Kuroiwa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 47(1) 31-34 2008年1月
The approach for direct stacking of high-k dielectrics on Si

Y. Nagasato, Y. Iwazaki, M. Hasumi, T. Ueno, K. Kuroiwa

ECS Transactions 11(4) 25-33 2007年
Low-temperature fabrication of ultrathin ZrO2/Si structure using metal deposition followed by oxygen annealing

Y Nagasato, T Aya, Y Iwazaki, M Hasumi, T Ueno, K Kuroiwa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 44(1A) 5-7 2005年1月
Fabrication of c-Axis Oriented Pb(Zr,Ti)O_3_ Thin Films on Si(100) Substrates Using MgO Intermediate Layer

共著者, Junji SENZAKI, Osamu MITSUNAGA, Takahito UCHIDA, Tomo UENO, Koichi KUROIWA

Jpn.J.Appl.Phys. 35(8) 4195-4198 1996年
Fabrication of c-Axis Oriented Pb(Zr,Ti)O_3_ Thin Films on Si(100) Substrates Using MgO Intermediate Layer

共著者, Junji SENZAKI, Osamu MITSUNAGA, Takahito UCHIDA, Tomo UENO, Koichi KUROIWA

Jpn.J.Appl.Phys. 35(8) 4195-4198 1996年
Contributions of Silicon-Hydride Radicals to Hydrogenated Amorphous Silicon Film Formation in Windowless Photochemical Vapor Deposition System

共著者, Yoshinori SAWADO, Takeshi AKIYAMA, Tomo UENO, Koichi KAMISAKO, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

Jpn.J.Appl.Phys. 33(2) 950-955 1994年
Application of High-intensity Vacuum Ultraviolet Light for Amorphous Silicon Film Fabrication Using a Windowless Photochemical Vapor Deposition System

共著者, Tomo UENO, Yoshinori SAWADO, Takeshi AKIYAMA, Yoshitaka IWASAKI, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

J.Non-Crystal.Solids 169(3) 283-287 1994年
Synchronously Excited Discrete Chemical Vapor Deposition of Ta_2_O_5_

共著者, Satoshi TANIMOTO, Nami SHIBATA, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

J.Electrochem.Soc. 141(5) 1339-1346 1994年
A High Rate of Chemical Vapor Deposition of Tantalum Pentoxide Film Initiated by Photoexcitation

共著者, Satoshi TANIMOTO, Nami SHIBATA, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

Appl.Surface Sci. 79/80 220-226 1994年
Highly Efficient Generation of High-energy Photons and Low-temperature Oxidation of a Crystal Silicon Surface with O¹D Radicals

共著者, Tomo UENO, Takeshi AKIYAMA, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

Appl.Surface Sci. 79/80 502-506 1994年
c-Axis-Oriented Pb(Zr,Ti)O_3_ Thin Films Prepared by Digital Metalorganic Chemical Vapor Deposition Method

共著者, Yoshihiro SOTOME, Junji SENZAKI, Shin-ichi MORITA, Satoshi TANIMOTO, Tadahiko HIRAI, Tomo UENO, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

Jpn.J.Appl.Phys. 33(7A) 4066-4069 1994年
Interaction of PbTiO_3_ Films with Si Substrate

共著者, Yushi SHICHI, Satoshi TANIMOTO, Takaaki GOTO, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

Jpn.J.Appl.Phys. 33(9B) 5172-5177 1994年
Thermal Properties of Various Ta Precursors Used in Chemical Vapor Deposition of Tantalum Pentoxide

共著者, Hiroyuki KOYAMA, Satoshi TANIMOTO, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

Jpn.J.Appl.Phys. 33(11) 6291-6298 1994年
Contributions of Silicon-Hydride Radicals to Hydrogenated Amorphous Silicon Film Formation in Windowless Photochemical Vapor Deposition System

共著者, Yoshinori SAWADO, Takeshi AKIYAMA, Tomo UENO, Koichi KAMISAKO, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

Jpn.J.Appl.Phys. 33(2) 950-955 1994年
Application of High-intensity Vacuum Ultraviolet Light for Amorphous Silicon Film Fabrication Using a Windowless Photochemical Vapor Deposition System

共著者, Tomo UENO, Yoshinori SAWADO, Takeshi AKIYAMA, Yoshitaka IWASAKI, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

J.Non-Crystal.Solids 169(3) 283-287 1994年
Synchronously Excited Discrete Chemical Vapor Deposition of Ta_2_O_5_

共著者, Satoshi TANIMOTO, Nami SHIBATA, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

J.Electrochem.Soc. 141(5) 1339-1346 1994年
A High Rate of Chemical Vapor Deposition of Tantalum Pentoxide Film Initiated by Photoexcitation

共著者, Satoshi TANIMOTO, Nami SHIBATA, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

Appl.Surface Sci. 79/80 220-226 1994年
Highly Efficient Generation of High-energy Photons and Low-temperature Oxidation of a Crystal Silicon Surface with O¹D Radicals

共著者, Tomo UENO, Takeshi AKIYAMA, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

Appl.Surface Sci. 79/80 502-506 1994年
c-Axis-Oriented Pb(Zr,Ti)O_3_ Thin Films Prepared by Digital Metalorganic Chemical Vapor Deposition Method

共著者, Yoshihiro SOTOME, Junji SENZAKI, Shin-ichi MORITA, Satoshi TANIMOTO, Tadahiko HIRAI, Tomo UENO, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

Jpn.J.Appl.Phys. 33(7A) 4066-4069 1994年
Interaction of PbTiO_3_ Films with Si Substrate

共著者, Yushi SHICHI, Satoshi TANIMOTO, Takaaki GOTO, Koichi KUROIWA, Yasuo TARUI

Jpn.J.Appl.Phys. 33(9B) 5172-5177 1994年

もっとみる

書籍等出版物

半導体用語辞典

日刊工業新聞社 2002年
半導体用語大辞典

日刊工業新聞社 1999年
半導体大事典

工業調査会 1999年
光励起プロセスハンドブック

サイエンスフォーラム 1987年
半導体デバイスの物理（１）

コロナ社 1974年
シリコン集積素子技術の基礎

地人書館 1970年
ＭＯＳ電界効果トランジスタ

日刊工業新聞社 1969年

講演・口頭発表等

スパッタ法による直接接合ＨｆＯ2/Ｓｉ構造の作製と評価

第55回応用物理学関係連合講演会 2008年
Ｈｉｇｈ-ｋ膜のポストアニールによる特性変化の検討

第55回応用物理学関係連合講演会 2008年
熱酸化によるＧｅＯ2の作製とその評価

第55回応用物理学関係連合講演会 2008年
ＥＣＲ酸化法によるＺｒＯ2ゲート絶縁膜材料の成膜および評価

第５５回応用物理学関係連合講演会 2008年
下地構造の違いによるＨｆＯ2膜の熱耐性の評価

第69回応用物理学会学術講演会 2008年
Ａｌ2Ｏ3/Ｓｉ構造の成膜プロセスの違いによるバンドシフトの変遷

第69回応用物理学会学術講演会 2008年
ＧｅＯ2/Ｇｅ構造における界面特性のプロセス依存性の検討

第69回応用物理学会学術講演会 2008年
ＥＣＲプラズマ窒化法によるＡｌＮ/Ｇｅ構造の作製と評価

第69回応用物理学会学術講演会 2008年
ＥＣＲプラズマ窒化によるHfOxNy薄膜の作製と評価(2)

第69回応用物理学会学術講演会 2008年
ＥＣＲプラズマ窒化によるHfOxNy薄膜の作製および評価(1)

第69回応用物理学会学術講演会 2008年
金属ＨｆのＥＣＲプラズマ酸化によるＳｉ及びＧｅ基板上ＨｆＯ2膜の作製

第54回応用物理学関係連合講演会 2007年
Ａｌ2Ｏ3膜をバリアとして用いたＨｆＯ2/Ａｌ2Ｏ3/Ｓｉ構造の作製

第54回応用物理学関係連合講演会 2007年
メタル堆積＋ポスト酸化によるＨｉｇｈ-ｋ膜の成膜プロセスの検討(2)

第54回応用物理学関係連合講演会 2007年
金属ＨｆのＥＣＲプラズマ酸化によるＳｉ及びＧｅ基板上ＨｆＯ2膜の作製

第５４回応用物理学関係連合講演会 2007年
ポスト酸化法によるＺｒＮxＯy薄膜の熱耐性および界面状態に関する評価

第５４回応用物理学関係連合講演会 2007年
ポスト酸化法によるＨｆＯxＮy薄膜の作製とその評価

第５４回応用物理学関係連合講演会 2007年
Ｍｅｔａｌ堆積＋ポスト酸化によるＨｉｇｈ-ｋ膜の熱耐性の検討

第68回応用物理学会学術講演会 2007年
メタル堆積＋ＥＣＲＫｒ/Ｏ2プラズマ酸化によるＨｆＯ2膜作製と評価

第68回応用物理学会学術講演会 2007年
金属堆積＋ポスト酸化によるＨｆＯ2/Ａｌ2Ｏ3/Ｓｉ構造の作製

第68回応用物理学会学術講演会 2007年
ポスト酸化法によるＨｆＯxＮy薄膜膜質の酸化温度依存性

第６８回応用物理学会学術講演会 2007年

もっとみる

黒岩紘一

基本情報

研究キーワード

研究分野

経歴

学歴

MISC

書籍等出版物

講演・口頭発表等

所属学協会

Works(作品等)

共同研究・競争的資金等の研究課題

メニュー