2016年9月16日
NOプローブ分子を用いた光電子分光法(XPS,UPS)によるN-doped a-C薄膜の表面構造の評価
第77回応用物理学会秋季学術講演会
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- 記述言語
- 日本語
- 会議種別
- 口頭発表(一般)
DLCとNドープしたDLC表面における一酸化窒素(NO)との反応を光電子分光法(XPS,UPS)により調べた結果を報告した。DLC表面に存在する欠陥はN原子により安定化され、その表面ではNOは分子上で吸着する。一方DLC表面では、NOの解離反応が生じ、その結果生じたO原子とNOが反応してNO2として安定化されることを見出した。異元素を導入したグラフェンでNO等との触媒作用が理論的に予測されているが、実験的に炭素化合物上でNOとの反応性が示された最初の結果と評価される。