高橋隆一 (Takakazu Takahashi) - マイポータル - researchmap

基本情報

所属: 富山大学工学部電気電子システム工学科助教授

学位: 工学博士(東京工業大学)

J-GLOBAL ID: 200901001687114773
researchmap会員ID: 1000019536

研究キーワード

2

研究分野

4

経歴

3

1976年 - 1998年

富山大学工学部助手
1976年 - 1998年

Research Associate, Faculty of Engineering,
富山大学

学歴

4

委員歴

1

1990年

電子情報通信学会, 磁気記録研究専門委員

MISC

36

Correlation between crystallographic orientations and Raman spectra of TiO(2) sputtered films with changing degrees of plasma exposure

T Takahashi, H Nakabayashi, J Tanabe, N Yamada, W Mizuno

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A 21(4) 1419-1423 2003年7月
Influence of working gas pressure on structure and properties of WO3 films reactively deposited by rf magnetron sputtering

T Takahashi, J Tanabe, N Yamada, H Nakabayashi

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A 21(4) 1414-1418 2003年7月
Photocatalytic properties of TiO(2)/WO(3) bilayers deposited by reactive sputtering

T Takahashi, H Nakabayashi, N Yamada, J Tanabe

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A 21(4) 1409-1413 2003年7月
Atomic force microscopy observation of TiO(2) films deposited by dc reactive sputtering

T Takahashi, H Nakabayashi, T Terasawa, K Masugata

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A 20(4) 1205-1209 2002年7月
Dependence of working gas pressure and ratio of Ar to O₂ on properties of TiO₂ films deposited by facing targets sputtering

Thin Solid Films 420-421, 433-437 2002年
Effects of Plasma exposure on structural and optical properties of TiO₂ films deposited by off-axis target sputtering

Journal of Vacuum Science & Technology A 201, 1916-1920 2002年
Dependence of working gas pressure and ratio of Ar to O₂ on properties of TiO₂ films deposited by facing targets sputtering

Thin Solid Films 420-421, 433-437 2002年
Effects of Plasma exposure on structural and optical properties of TiO₂ films deposited by off-axis target sputtering

Journal of Vacuum Science & Technology A 201, 1916-1920 2002年
Surface morphology of TiN films reactively deposited by bias sputtering

T Takahashi, K Masugata, H Kawai, S Kontani, J Yamamoto

VACUUM 59(2-3) 777-784 2000年11月
Effect of surface roughness on magnetic properties of Fe films deposited by dual ion beam sputtering

S Iwatsubo, T Takahashi, M Naoe

THIN SOLID FILMS 343 67-70 1999年4月
Structure and Adhesive Properties of TiN Films Reactively Deposited by Plasma-Free Sputtering[共著]

Thin Solid Films 343/344 273-276 1999年
Adhesive Characteristics of Fe Films Deposited by Ion Beam Sputtering with Ar Ion Bombardment[共著]

Thin Solid Films 343/344 261-264 1999年
An Estimation of Optimun Ar Ion Bombardment Energy for Good Fe Films Applying Thermal Spike Effect[共著]

Thin Solid Films 343/344 71-74 1999年
Angular Dependence of Magnetism of Fe Films Sputtered with Ion Beam Perpendicular to Target[共著]

Journal of Applied Physics 85(8, Pt.2B) 5995-5997 1999年
Magnetic Properties of Fe Films Deposited by Ar, Kr and Xe Ion Beam Sputtering[共著]

Journal of Applied Physics 83(11, Pt.2) 6667-6669 1998年
イオンビームスパッタ法による窒素イオン衝撃を用いたFeN薄膜の作製 [共著]

日本応用磁気学会誌 21(4-2) 437-440 1997年
Relationship between amount of energy/number of recoiled Ar ions and Properties of Fe films by Ion beam sputtering [共著]

Journal of the Magnetics Society of Japan 21(S2) 193-196 1997年
Dependence of Power Density of Ar Bombardment on Properties of Fe Films by Ion Beam Sputtering [共著]

Journal of the Magnetics Society of Japan 21(S2) 189-192 1997年
イオンビームスパッタ法による窒素イオン衝撃を用いたFeN薄膜の作製

岩坪聡, 高橋隆一

日本応用磁気学会誌 21(4-2) 437-440 1997年
Effects of Ar bombardment on magnetic properties of Fe films deposited by double-ion-beam sputtering [共著]

Journal of Applied Physics 81(8, Pt.2B) 5802-5804 1997年

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書籍等出版物

4

Annealing effect of Ar Bombardment of Fe films deposited by double ion beam sputtering [共著]

Proceedings of the 4th International Symposium and Plasma Processes 1997年
A Study of Toroidal Plasma Sputtering Method for Mass Production of Co-Cr Films [共著]

Ferrites : Proceedings of the Sixth International Conference on Ferrites 1993年
Dependence of Ar Flow Rate on Structure and Properties of Ni-Fe Films Sputtered under Suppress of High Energy Electrons [共著]

Ferrites : Proceedings of the Sixth International Conference on Ferrites 1993年
Preparation of Amorphous Co-Zr Films by Improved Magnetron Sputtering with Effective Plasma Confinement [共著]

Ferrites : Proceedings of the Sixth International Conference on Ferrites 1993年

所属学協会

4

共同研究・競争的資金等の研究課題

4

光触媒スパッタ膜の形成に関する研究

科学研究費補助金 1999年
Deposition of Photocatalytic Films by Sputtering

Grant-in-Aid for Scientific Research 1999年
スパッタ法による電子材料薄膜の形成に関する研究

科学研究費補助金 1978年 - 1998年
Deposition of Electronic thin Films by Sputtering

1978年 - 1998年