藤田静雄 (Shizuo Fujita) - マイポータル

基本情報

所属: 京都大学成長戦略本部研究員 (名誉教授)

学位: 工学博士(京都大学)

J-GLOBAL ID: 200901033344335803
researchmap会員ID: 1000027515

外部リンク: http://pesec.t.kyoto-u.ac.jp/ematerial/

研究キーワード

研究分野

経歴

2021年4月 - 現在

京都大学, 研究員
2001年4月 - 2021年3月

京都大学, 教授
1990年4月 - 2001年3月

京都大学, 助教授
1994年8月 - 1995年4月

North Carolina State University, 研究員
1980年4月 - 1990年3月

京都大学, 助手

学歴

1978年4月 - 1980年3月

京都大学, 大学院工学研究科, 電気工学専攻
1974年4月 - 1978年3月

京都大学, 工学部, 電気工学科

受賞

2023年3月

関西支部貢献賞, 酸化ガリウムの研究開発と実用化に向けた取り組み, 応用物理学会関西支部

藤田静雄, 金子健太郎
2020年3月

化合物半導体エレクトロニクス業績賞（赤﨑勇賞）, 「GaAs系，ZnSe系，および酸化物半導体の結晶成長における新技術開拓への貢献」, 応用物理学会
2017年8月

大学発ベンチャー表彰2017 新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO) 理事長賞

藤田静雄, 株式会社FLOSFIA, 株式会社東京大学エッジキャピタル
2016年9月

科学研究費助成事業審査委員表彰, 日本学術振興会
2015年12月

IEEE EDS Kansai Chapter of the Year Award
2014年9月

論文賞 (解説論文賞), 応用物理学会
2008年9月

フェロー表彰, ワイドギャップ光半導体材料の研究, 応用物理学会

論文

347

Characterization of sheet resistance of semiconductor thin films on semi-insulating substrates by non-destructive microwave resistance measurements with RF probe: β-Ga₂O₃ as an example

Hikaru Ikeda, Takeru Wakamatsu, Yuki Isobe, Katsuhisa Tanaka, Shizuo Fujita, Hidetaka Sugaya

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 65(5) 2026年3月16日
Safe and cost-effective mist CVD as a homoepitaxial growth technology to fabricate β-Ga₂O₃ RF MESFETs

Hikaru Ikeda, Takeru Wakamatsu, Yuji Ando, Hidemasa Takahashi, Ryutaro Makisako, Tetsuzo Ueda, Jun Suda, Katsuhisa Tanaka, Shizuo Fujita, Hidetaka Sugaya

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 64(10) 2025年10月1日査読有り
"Realization of cathodoluminescence in 180 nm spectral range by suppressing thermal stress in mist chemical vapor deposition of rocksalt-structured MgZnO films" (vol 63, 02SP30, 2024)

Kotaro Ogawa, Wataru Kosaka, Hiroya Kusaka, Kanta Kudo, Soichiro Ohno, Izumi Serizawa, Yuichi Ota, Tomohiro Yamaguchi, Tohru Honda, Kentaro Kaneko …

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 64(4) 2025年4月1日査読有り
Rocksalt-structured MgZnO-based UV-C lamp emitting in 190-220 nm spectral range using 146 nm line of Kr₂* generated by dielectric barrier discharge

Kotaro Ogawa, Toshiki Mitomi, Hideki Yajima, Wataru Kosaka, Hiroya Kusaka, Go Kobayashi, Tomohiro Yamaguchi, Tohru Honda, Kentaro Kaneko, Shizuo Fujita …

APPLIED PHYSICS EXPRESS 17(12) 2024年12月1日査読有り
Bandgap engineering of spinel-structured oxide semiconductor alloys

Yuichi Ota, Kentaro Kaneko, Takeyoshi Onuma, Shizuo Fujita

Journal of Physics D: Applied Physics 2024年6月28日査読有り
Realization of cathodoluminescence in the 180 nm spectral range by suppressing thermal stress in mist chemical vapor deposition of rocksalt-structured MgZnO films

Kotaro Ogawa, Wataru Kosaka, Hiroya Kusaka, Kanta Kudo, Soichiro Ohno, Izumi Serizawa, Yuichi Ota, Tomohiro Yamaguchi, Tohru Honda, Kentaro Kaneko …

Japanese Journal of Applied Physics 63(2) 02SP30-02SP30 2024年1月4日査読有り
Prospects of mist CVD for fabrication of β-Ga₂O₃ MESFETs on β-Ga₂O₃ (010) substrates

Hitoshi Takane, Yuji Ando, Hidemasa Takahashi, Ryutaro Makisako, Hikaru Ikeda, Tetsuzo Ueda, Jun Suda, Katsuhisa Tanaka, Shizuo Fujita, Hidetaka Sugaya

APPLIED PHYSICS EXPRESS 16(8) 2023年8月1日査読有り
Steady-state and dynamic characteristics of deep UV luminescence in rock salt-structured MgxZn1−xO

Takeyoshi Onuma, Kanta Kudo, Mizuki Ono, Wataru Kosaka, Kohei Shima, Kyohei Ishii, Kentaro Kaneko, Yuichi Ota, Tomohiro Yamaguchi, Kazunobu Kojima …

Journal of Applied Physics 134(2) 2023年7月13日
Growth of α-In₂O₃ films with different concentrations of In₂O₃ powder used as source precursor by mist chemical vapor deposition

Akito Taguchi, Takumi Yamamoto, Kentaro Kaneko, Ken Goto, Takeyoshi Onuma, Tohru Honda, Yoshinao Kumagai, Shizuo Fujita, Tomohiro Yamaguchi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62(SF) 2023年6月1日
Progress in α-Ga₂O₃ for practical device applications

Kentaro Kaneko, Shizuo Fujita, Takashi Shinohe, Katsuhisa Tanaka

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62(SF) 2023年6月1日
Natural band alignment of MgO1−xSx alloys

Yuichi Ota, Kentaro Kaneko, Takeyoshi Onuma, Shizuo Fujita

AIP Advances 13(5) 2023年5月1日
Corrigendum: “Initial nucleation scheme of Ga2O3 on (0001) sapphire by mist CVD for the growth of α-phase” [Jpn. J. Appl. Phys. 60, 055501 (2021)]

Hitoshi Takane, Kentaro Kaneko, Yuichi Ota, Shizuo Fujita

Japanese Journal of Applied Physics 61(9) 2022年9月1日査読有り
Prospects for phase engineering of semi-stable Ga₂O₃ semiconductor thin films using mist chemical vapor deposition

Kentaro Kaneko, Kazuyuki Uno, Riena Jinno, Shizuo Fujita

Journal of Applied Physics 131(9) 090902-090902 2022年3月7日
Novel p-type oxides with corundum structure for gallium oxide electronics

Kentaro Kaneko, Shizuo Fujita

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH 37(3) 651-659 2022年2月14日
Mist Chemical Vapor Deposition Growth of α-In₂O₃ Films Using Indium Oxide Powder as Source Precursor

Akito Taguchi, Subaru Takahashi, Atsushi Sekiguchi, Kentaro Kaneko, Shizuo Fujita, Takeyoshi Onuma, Tohru Honda, Tomohiro Yamaguchi

PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC SOLID STATE PHYSICS 259(2) 2022年2月
Vacuum Ultraviolet Emission Properties of Rocksalt-Structured MgZnO Microcrystals Prepared on Quartz Glass Substrates

Wataru Kosaka, Shoma Hoshi, Kanta Kudo, Kentaro Kaneko, Tomohiro Yamaguchi, Tohru Honda, Shizuo Fujita, Takeyoshi Onuma

PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC SOLID STATE PHYSICS 259(2) 2022年2月
Identification of free and bound exciton emission of MgO single crystal in vacuum ultraviolet spectral range

Takeyoshi Onuma, Wataru Kosaka, Kanta Kudo, Yuichi Ota, Tomohiro Yamaguchi, Kentaro Kaneko, Shizuo Fujita, Tohru Honda

Applied Physics Letters 2021年9月27日査読有り
Initial nucleation scheme of Ga2O3 on (0001) sapphire by mist CVD for the growth of alpha-phase

Hitoshi Takane, Kentaro Kaneko, Yuichi Ota, Shizuo Fujita

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 60(5) ARTN 055501 2021年5月査読有り
Analysis of Deep Traps in Mist Chemical Vapor Deposition-Grown n-Type alpha-Ga2O3 by Photocapacitance Method

Hitoshi Takane, Kentaro Kaneko, Takashi Shinohe, Shizuo Fujita

PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC SOLID STATE PHYSICS 258(5) ARTN 2000622 2021年5月査読有り
Thermal stability of α-(Al x Ga1–x )2O3 films grown on c-plane sapphire substrates with an Al composition up to 90%

Riena Jinno, Kentaro Kaneko, Shizuo Fujita

Japanese Journal of Applied Physics 60(SB) SBBD13-SBBD13 2021年5月1日

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MISC

119

酸化マグネシウム(MgO)結晶多形のバンドアライメント

太田優一, 尾沼猛儀, 藤田静雄

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 71st 2024年
ミストCVD法によるIII族ドープ岩塩構造MgZnO薄膜成長

松田真樹, 小川広太郎, 小川広太郎, 太田優一, 山口智広, 金子健太郎, 藤田静雄, 本田徹, 尾沼猛儀

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 70th 2023年
超ワイドバンドギャップ酸化物混晶のバリガ性能指数の評価

太田優一, 金子健太郎, 尾沼猛儀, 藤田静雄

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 70th 2023年
ミストCVD法によるInドープMgZnO薄膜の成長

松田真樹, 小川広太郎, 小川広太郎, 太田優一, 山口智広, 金子健太郎, 藤田静雄, 本田徹, 尾沼猛儀

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 83rd 2022年
InドープMgO薄膜の発光特性

高坂亘, 小川広太郎, 小川広太郎, 松田真樹, 日下皓也, 太田優一, 金子健太郎, 山口智広, 本田徹, 藤田静雄 …

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 83rd 2022年
MgO単結晶の真空紫外励起子スペクトル

尾沼猛儀, 高坂亘, 工藤幹太, 太田優一, 山口智広, 金子健太郎, 藤田静雄, 本田徹

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 82nd 2021年
ミストCVD法で作製されたATO薄膜の電気的および光学的特性

上田真理子, LIU Li, 佐藤翔太, DANG Giang T, 川原村敏幸, 川原村敏幸, 藤田静雄, 織田容征, 平松孝浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 79th ROMBUNNO.20a‐234A‐3 2018年9月5日
高品質α‐Fe₂O₃薄膜の電気特性および磁気特性に与えるドーピング効果の影響

内田昌志, 赤岩和明, 小森祥央, 掛谷一弘, 金子健太郎, 藤田静雄

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 76th ROMBUNNO.14P-PA13-4 2015年8月31日
反応支援型ミストCVD法により低温成長した酸化アルミニウム(AlO_x)薄膜のパッシベーション応用特性

内田貴之, 川原村敏幸, 藤田静雄, 平松孝浩, 織田容征

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 62nd ROMBUNNO.11A-C2-6 2015年2月26日
大気開放下によるSnO薄膜の作製とその物性評価

内田貴之, 川原村敏幸, 藤田静雄

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 75th ROMBUNNO.19A-A12-8 2014年9月1日
超狭帯域LED光源の開発とその皮膚医学応用 (電子部品・材料)

小笠原正弘, 平尾孝, 藤田静雄

電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114(57) 85-90 2014年5月28日
超狭帯域LED光源の開発とその皮膚医学応用 (電子デバイス)

小笠原正弘, 平尾孝, 藤田静雄

電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114(56) 85-90 2014年5月28日
オゾン支援を用いたミストCVD法による酸化アルミニウム(AlO_x)パッシベーション膜の特性

内田貴之, 川原村敏幸, 柴山健次, 藤田静雄, 平松孝浩, 織田容征

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 61st ROMBUNNO.18A-E12-5 2014年3月3日
ミストCVD法によるSnO_x薄膜の作製とその特性

内田貴之, 川原村敏幸, 藤田静雄

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 61st ROMBUNNO.17P-E10-5 2014年3月3日
大気圧ミストCVD法で作製した酸化アルミニウム(AlO_x)薄膜の太陽電池用パッシベーション応用

内田貴之, 川原村敏幸, 柴山健次, 藤田静雄, 平松孝浩, 織田容征

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 74th ROMBUNNO.19A-A4-1 2013年8月31日
アモルファスα‐Fe₂O₃‐Co₂O₃薄膜の磁気特性評価

金子健太郎, 小森祥央, 掛谷一弘, 藤田静雄, 田中勝久

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 74th ROMBUNNO.16P-P3-1 2013年8月31日
Pb_1-yBi_ySr₂Y_1-xCa_xCu₂O_7+δ単結晶エピタキシャル薄膜の成長と評価

小森祥央, 稲葉遼太郎, 金子健太郎, 藤田静雄, 掛谷一弘, 鈴木実

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 60th ROMBUNNO.27P-G3-7 2013年3月11日
Fabrication of corundum-structured α-(InFe)₂O₃ alloy films on sapphire substrates by inserting α-Fe₂O ₃ buffer layer

K. Akaiwa, N. Suzuki, K. Kaneko, S. Fujita

Materials Research Society Symposium Proceedings 1494 221-225 2013年査読有り
Crystal structure of non-doped and Sn-doped α-(GaFe) ₂O₃ thin films

K. Kaneko, K. Akaiwa, S. Fujita

Materials Research Society Symposium Proceedings 1494 147-152 2013年査読有り
Fabrication of organic polymer solar cells by a novel solution-based vapor-like mist deposition method

Takumi Ikenoue, Shizuo Fujita

Materials Research Society Symposium Proceedings 1390 109-114 2012年査読有り

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書籍等出版物

現代工学の基礎(2)(共著)

藤田静雄

岩波書店,/,49-112 2000年
Fundamentals of modern engineering(2)(共著)

藤田静雄

Iwanami Publishing,/,49-112 2000年
Properties of wide bandgap II-VI semiconductors(共著)

藤田静雄

The institution of electrical engineers, 1997年
II-VI blue/green light emitters : device physics and epitaxial growth, semiconductors and semimetals vol. 44(共著)

藤田静雄

Academic press, 1997年
薄膜作製応用ハンドブック(共著)

藤田静雄

エヌ・ティー・エス, 1995年
Handbook on thin film fabrication and application

藤田静雄

, 1995年

所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

真空紫外半導体光物性の学理創成

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 2020年4月 - 2023年3月

藤田静雄, 尾沼猛儀, 太田優一
コランダム構造酸化ガリウムを用いたパワーMOSFETの開発

科学技術振興機構戦略的イノベーション創造プログラム 2018年 - 2023年

四戸孝, 藤田静雄, 田中勝久, 谷田部然治, 廣瀬富佐雄
脳科学と細胞生理学にもとづく照明デザイン

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的研究(萌芽) 2019年6月 - 2021年3月

藤田静雄, 岩田誠
深紫外プラズモニクスの基盤創成と高効率深紫外発光素子への応用

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2018年4月 - 2021年3月

岡本晃一, 藤田静雄
超ワイドギャップ酸化物半導体量子構造によるサブ200nm光機能の創成

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 基盤研究(A) 2017年4月 - 2020年3月

藤田静雄, 尾沼猛儀
超狭帯域発光ダイオードによる細胞光エンジニアリング

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的研究(萌芽) 2017年6月 - 2019年3月

藤田静雄, 藤原康文
サステナブル・マテリアルを用いた高効率光触媒の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(B) 2015年4月 - 2017年3月

金子健太郎, 藤田静雄, 田中勝久, 内田昌志, 竹本柊
還元反応による酸化制御に基づく酸化物半導体の伝導性制御

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究挑戦的萌芽研究 2015年4月 - 2017年3月

藤田静雄, 金子健太郎
ミスト成長法による機能性単結晶酸化物薄膜の創成

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2013年4月 - 2016年3月

藤田静雄, 川原村敏幸
新しい酸化物半導体による光・電子・磁気融合機能の創成

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2010年 - 2012年

藤田静雄
酸化ガリウム系深紫外発光デバイスの研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2007年 - 2009年

藤田静雄
有機薄膜のミスト成膜法の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業萌芽研究萌芽研究 2007年 - 2008年

藤田静雄
酸化亜鉛系半導体のナノ構造制御による新物性の創製

日本学術振興会科学研究費助成事業特別研究員奨励費 2005年 - 2007年

藤田静雄, LU Jian Guo, 呂建国, LU J.-G.
新CVD技術による酸化物単結晶薄膜成長装置の開発

科学技術振興機構産学が連携した研究開発成果の展開/研究成果展開事業/地域事業/地域イノベーション創出総合支援事業/シーズ発掘試験 2006年 - 2006年

藤田静雄
擬似混晶技術によるp型酸化亜鉛系半導体の作製

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2005年 - 2006年

藤田静雄
超微細ナノドット・ナノロッド・ナノラインの新しい超精密配列制御技術の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2003年 - 2004年

藤田静雄, 船戸充
短波長材料における励起子局在化の空間制御と多波長発光の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業特定領域研究 2001年 - 2003年

藤田茂夫, 藤田静雄, 川上養一
有機材料による白色発光のダイナミクス

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2001年 - 2002年

藤田茂夫, 藤田静雄
直接遷移型多色発光材料の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業萌芽的研究 2000年 - 2000年

藤田静雄
表面エネルギー変調エピタキシーによる半導体不整合系へテロ構造の作製

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 1999年 - 2000年

船戸充, 藤田静雄

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産業財産権

特許5652768 金属酸化膜の成膜方法、金属酸化膜および金属酸化膜の成膜装置

藤田静雄ほか
特許5645191 金属酸化膜の成膜方法および金属酸化膜

藤田静雄ほか
特許5621130 ミスト噴出用ノズル、それを備えた成膜装置および成膜方法

藤田静雄ほか
特許5614558 金属酸化膜の成膜装置、金属酸化膜の成膜方法

藤田静雄ほか
特許5294432 酸化亜鉛バリスタの製造方法および酸化亜鉛バリスタ

藤田静雄ほか
特許5124760 成膜方法及び成膜装置

藤田静雄ほか
特許5103683 酸化ガリウム基板用電極の製造方法及びそれにより製造される酸化ガリウム基板用電極

藤田静雄ほか
特許4940425 原料ガス噴出用ノズル及び化学的気相成膜装置

藤田静雄ほか
特許4911569 多層導波路およびその作製方法

藤田静雄ほか
特許4785363 蛍光体粒子、蛍光体粒子分散体ならびにこれらを含む照明装置および表示装置

藤田静雄ほか
特許4754998 二光子吸収材料

藤田静雄ほか
特許4704894 成膜方法及び成膜装置

藤田静雄ほか
特許4672996 成膜用霧化装置

藤田静雄ほか
特許4526339 発光体

藤田静雄ほか
特許4475432 情報記録方法及び情報再生方法

藤田静雄ほか
特許4401264 蛍光体およびその製造方法ならびに発光装置

藤田静雄ほか
特許4270381 導電性重合体及びその製造方法並びにそれを用いた有機太陽電池

藤田静雄ほか
特許4197109 照明装置

藤田静雄ほか
特許2784093 半導体装置

藤田静雄ほか
特許2616287 半導体装置

藤田静雄ほか

藤田静雄

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論文

MISC

書籍等出版物

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共同研究・競争的資金等の研究課題

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