産業財産権

特許権

イオンビームを用いた炭素系多層薄膜の製造方法

国立大学法人京都大学
  • 後藤 康仁
    • ,
  • 辻 博司
    • ,
  • 石川 順三
出願番号
特願2004-217885
出願日
2004年7月26日
公開番号
特開2006-037158
公開日
2006年2月9日
リンク情報
J-GLOBAL
https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=200903094455557453
ID情報
  • J-Global ID : 200903094455557453
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