2015年7月
Effect of substrate position on crystal orientation of tungsten films prepared by rf magnetron sputter deposition
Proceedings of the 13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes
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- 開始ページ
- 387
- 終了ページ
- 390
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 研究発表ペーパー・要旨(国際会議)