2009年7月
Measurement of work function of hafnium nitride films prepared by RF magnetron sputtering
Proceedings of the 10th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes
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- 開始ページ
- 535
- 終了ページ
- 538
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 研究発表ペーパー・要旨（国際会議）